[發明專利]用于X射線的源光柵、用于X射線相襯圖像的成像裝置和X射線計算層析成像系統

有效

• 申請號: 200980112851.2
• 申請日: 2009-04-13
• 公開（公告）號: CN102047344A
• 公開（公告）日: 2011-05-04
• 發明（設計）人: 伊藤英之助;市村好克;中村高士;今田彩
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G21K1/02
• 分類號: G21K1/02;G21K7/00
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 李穎

1.一種源光柵，用于X射線，所述源光柵能被放置在X射線源和被檢對象之間并且用于X射線相襯成像，其中

所述用于X射線的源光柵包括多個子光柵，所述多個子光柵是通過以恒定的間隔周期性地布置各自具有屏蔽X射線的厚度的突出部分而被形成的，

通過使所述多個子光柵相互地偏移來多層地層疊所述多個子光柵，以及

所述用于X射線的源光柵具有這樣的結構：在該結構中，使得作為由周期性地布置的突出部分之間的間隔形成的X射線透射區域的孔徑的寬度比子光柵中的每一個的孔徑寬度窄。

2.根據權利要求1的用于X射線的源光柵，還包括：

可移動單元，所述可移動單元使多層地層疊的子光柵中的至少一個可移動，并且使作為X射線透射區域的孔徑的寬度可變。

3.根據權利要求1或2的用于X射線的源光柵，其中，

所述多個子光柵包括線狀第一和第二子光柵，在所述線狀第一和第二子光柵中，直線地形成所述突出部分并且以恒定的間隔周期性地布置所述突出部分，以及

通過使第二子光柵相對于第一子光柵的周期性方向進行偏移來層疊第二子光柵。

4.根據權利要求1或2的用于X射線的源光柵，其中，

所述多個子光柵包括線狀第一和第二子光柵，在所述線狀第一和第二子光柵中，直線地形成所述突出部分并且以恒定的間隔周期性地布置所述突出部分，以及

沿與所述第一子光柵的周期性方向正交的方向層疊所述第二子光柵。

5.根據權利要求1或2的用于X射線的源光柵，其中，

所述多個子光柵包括第一子光柵和第二子光柵，第一子光柵和第二子光柵具有矩形孔徑，沿第一方向和與第一方向正交的第二方向二維地布置所述矩形孔徑，以及

通過使第二子光柵相對于第一子光柵沿第一方向和第二方向進行偏移來層疊第二子光柵。

6.根據權利要求1或2的用于X射線的源光柵，其中，

所述多個子光柵包括三層或更多個層的子光柵，所述三層或更多個層的子光柵是通過線狀子光柵形成的，在所述線狀子光柵中，直線地形成所述突出部分并且以恒定的間隔周期性地布置所述突出部分，以及

通過使上層的子光柵相對于下層的子光柵進行偏移來層疊上層的子光柵。

7.一種用于X射線相襯圖像的成像裝置，包括：

根據權利要求1～6中的任一項的用于X射線的源光柵；

相位光柵，所述相位光柵用于調制透射通過所述用于X射線的源光柵的X射線的相位；以及

吸收光柵，所述吸收光柵包括屏蔽區域和X射線透射區域，所述屏蔽區域吸收透射通過所述相位光柵的X射線，所述X射線透射區域透射X射線。