[發明專利]物體的距離和取向測量

有效

• 申請號: 200980111359.3
• 申請日: 2009-03-17
• 公開（公告）號: CN101981468A
• 公開（公告）日: 2011-02-23
• 發明（設計）人: V·博卡托夫斯基
• 申請（專利權）人: 伊斯曼柯達公司
• 主分類號: G01S17/08
• 分類號: G01S17/08;G01S17/87
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245
• 代理人: 趙蓉民

1.一種用于測量物體和光源之間的距離并且感測所述物體的取向的方法，所述方法包括以下步驟：

將來自多個光源的光施加在所述物體上；

檢測來自物體的反射能量水平；

測量來自所述物體的所述反射能量水平；

計算指示與所述物體和所述光源之間的距離關系的距離校準函數；

確定在所述距離校準函數內由最小值和最大值指示的至少一個測量范圍；

計算指示在調制函數的周期內在預定時隙處采樣的能量水平關系的角度校準函數；以及

用所述調制函數調制所述多個光源中的每一個，使得在所述光發射的時間期間從所述多個光源施加在所述物體上的總能量由光發射預定函數表示。

2.根據權利要求1所述的方法，其中計算所述物體的輪廓。

3.根據權利要求1所述的方法，還包括：

在所述調制函數的周期的第一部分期間取得所述反射光能量的第一測量值；

在所述調制函數的所述周期的第二部分期間取得所述反射光能量的第二測量值；以及

如果所述第一測量值等于所述第二測量值，則所述物體被布置為相對于光發射軸線垂直，并且使用所述距離校準函數從所述第一測量值或所述第二測量值導出所述物體和所述光源之間的所述距離。

4.根據權利要求1所述的方法，還包括：

在所述調制函數的周期的第一部分期間取得所述反射光能量的第一測量值；

在所述調制函數的所述周期的第二部分期間取得所述反射光能量的第二測量值；以及

如果所述第一測量值大于所述第二測量值，則所述物體相對于光發射軸線的取向角度大于90度，并且使用所述距離校準函數從所述第一測量值和所述第二測量值的平均值導出所述物體和所述光源之間的所述距離，并且從所述角度校準函數導出所述取向角度。

5.根據權利要求1所述的方法，還包括：

在所述調制函數的周期的第一部分期間取得所述反射光能量的第一測量值；

在所述調制函數的所述周期的第二部分期間取得所述反射光能量的第二測量值；以及

如果所述第一測量值小于所述第二測量值，則所述物體相對于光發射軸線的取向角度小于90度，并且使用所述距離校準函數從所述第一測量值和所述第二測量值的平均值導出所述物體與所述光源之間的所述距離，并且從所述角度校準函數導出所述取向角度。

6.根據權利要求1所述的方法，其中所述光發射預定函數由恒定值表示。

7.根據權利要求1所述的方法，其中所述光發射預定函數是周期函數。

8.根據權利要求7所述的方法，其中對所述周期函數進行脈沖調制。

9.根據權利要求7所述的方法，其中所述周期函數是三角函數。

10.根據權利要求7所述的方法，其中所述周期函數是平方正弦函數。

11.根據權利要求1所述的方法，其中是所述光源是激光光源。

12.根據權利要求1所述的方法，其中所述光源是激光發射二極管光源。

13.根據權利要求3所述的方法，其中所述調制函數的所述第一部分周期和所述第二部分周期之和等于所述調制函數的周期。

14.根據權利要求3所述的方法，其中所述調制函數的所述第一部分周期等于所述調制函數的所述第二部分周期。

15.根據權利要求1所述的方法，其中所述測量范圍是線性的。