[發明專利]聚合物成型體的制造方法

無效

• 申請號: 200980110162.8
• 申請日: 2009-01-19
• 公開（公告）號: CN101977971A
• 公開（公告）日: 2011-02-16
• 發明（設計）人: 山根和行;齋藤武;穗刈有希
• 申請（專利權）人: 株式會社吳羽
• 主分類號: C08J7/00
• 分類號: C08J7/00
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 楊宏軍

技術領域

本發明涉及一種聚合物成型體的制造方法。

背景技術

有機聚合物材料根據其各種類所具有的彈性模量、強度等機械性質，溶劑溶解性、親水性、疏水性等化學性質，耐熱性等熱性質，可以被成型加工成膜狀、纖維狀、板狀、粒狀等各種形狀，可以在各個領域中被使用。另外，也正在研究在由有機聚合物材料形成的結構體上施以小孔。

例如，專利文獻1～3中公開了將具有各種圖案的光致抗蝕劑用作掩模，對聚酰亞胺膜等有機高分子結構體進行蝕刻的方法。另外，專利文獻4及5中公開了在塑料膜的壓花部分形成小孔的方法。并且，專利文獻6中公開了在表面具有帶有開口的金屬箔的塑料片材上，通過準分子激光的照射形成貫通孔的方法。專利文獻7中公開了通過流體聲波在薄的片材材料上形成微孔的方法。

專利文獻1：日本特開平9-296057號公報

專利文獻2：日本特開2001-305750號公報

專利文獻3：日本特開昭60-111243號公報

專利文獻4：日本特開昭62-267336號公報

專利文獻5：日本特開平5-86216號公報

專利文獻6：日本特開平5-15987號公報

專利文獻7：日本特開平6-198598號公報

發明內容

但是，使用上述專利文獻中公開的方法對含有聚乙醇酸的聚合物結構體進行蝕刻難以形成凹部。另外，由于專利文獻1～3中公開的方法使用了濕蝕刻，所以存在廢溶劑的處理問題。并且，使用專利文獻4～7中公開的方法存在為了進行多孔化而導致工序變繁雜的趨勢。

因此，本發明的目的在于提供一種可以在含有聚乙醇酸的聚合物結構體上形成凹部的聚合物成型體的制造方法及由此得到的聚合物成型體。

本發明提供一種聚合物成型體的制造方法，所述制造方法包括如下工序：在真空度為50mTorr以下、輸出功率為1～6W且電流為3mA以下的條件下對含有聚乙醇酸的聚合物結構體進行干蝕刻，由此在上述聚合物結構體上形成凹部。

本發明人等對含有聚乙醇酸的聚合物結構體的蝕刻方法進行了深入研究，結果發現通過選擇上述蝕刻條件，可以使聚乙醇酸之外的聚合物成分不被蝕刻，而只對聚乙醇酸進行良好地蝕刻，從而完成了本發明。使用上述制造方法，可以不經過現有的復雜工序，并且也不像濕處理那樣產生廢液，而是通過簡便的處理在含有聚乙醇酸的聚合物結構體上形成凹部。另外，聚合物結構體只由聚乙醇酸構成時，通過使用具有規定圖案的掩模進行蝕刻，可以得到在對應于掩模開口部的位置形成凹部的聚合物成型體。另外，聚合物結構體含有聚乙醇酸和聚乙醇酸之外的聚合物成分時，可以制造只選擇地蝕刻存在于聚合物結構體表面附近的聚乙醇酸部分而形成凹部的聚合物成型體。

上述制造方法中，干蝕刻優選氬離子蝕刻。由于氬離子蝕刻在垂直方向的蝕刻性優異，所以可以在更溫和的條件下形成具有整齊蝕刻形狀(難引起側蝕)的凹部的聚合物成型體。

本發明還提供一種可以由上述聚合物成型體的制造方法得到的聚合物成型體。聚合物結構體只由聚乙醇酸形成時，由于聚乙醇酸為生物可降解性聚合物，所以形成有上述凹部的聚合物成型體可以用作活細胞的培養基材。

根據本發明，可以提供一種可以在含有聚乙醇酸的聚合物結構體上形成凹部的聚合物成型體的制造方法及由此得到的聚合物成型體。

附圖說明

[圖1]為表示通過本發明的制造方法得到的聚合物成型體的實施方式的立體圖。

[圖2]為通過立體圖表示的本發明聚合物成型體的制造方法的實施方式工序圖。

[圖3]為表示平紋織物網眼的模式圖。

[圖4]為從蝕刻表面觀察的由實施例1得到的PGA成型體的SEM圖像。

[圖5]為從蝕刻表面觀察的由實施例7得到的PGA成型體的SEM圖像。

[圖6]為從蝕刻表面觀察的由實施例11得到的PGA/PET成型體的SEM圖像。

[圖7]為從蝕刻表面觀察的由實施例12得到的PGA/PP成型體的SEM圖像。

[圖8]為從蝕刻表面觀察的由實施例13得到的PGA/PLA成型體的SEM圖像。

[圖9]為從蝕刻表面觀察的由比較例5得到的蝕刻后的PVDF膜的SEM圖像。

符號說明

1...聚合物成型體；2...聚合物結構體；3...凹部；4...第1掩模；6...第2掩模；8...干蝕刻裝置；10...平紋織物網眼；12...孔徑；14...線徑。

具體實施方式