[發明專利]制造圖案化雙折射產品的方法

有效

• 申請號: 200980110128.0
• 申請日: 2009-01-19
• 公開（公告）號: CN101978296A
• 公開（公告）日: 2011-02-16
• 發明（設計）人: 兼巖秀樹;網盛一郎
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G02B5/30
• 分類號: G02B5/30;G02F1/13363;B42D15/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 柴麗敏;于輝

1.一種制造圖案化雙折射產品的方法，依序包括至少步驟(I)～(III)：

(I)提供具有含有聚合物的光學各向異性層的雙折射圖案構造體；

(II)對所述雙折射圖案構造體的兩個以上區域在彼此不同的曝光條件下進行曝光；和

(III)在50℃以上和400℃以下的溫度下加熱所述步驟(II)后得到的疊置結構。

2.如權利要求1所述的方法，其中所述曝光條件在選自曝光強度、曝光量、曝光時間和曝光峰值波長的至少一個曝光參數方面不同。

3.如權利要求1或2所述的方法，其中使用具有彼此不同圖案的曝光掩模進行所述兩個以上區域的曝光。

4.如權利要求1所述的方法，其中使用具有表現出彼此不同的透射光譜的兩個以上區域的曝光掩模通過一次曝光進行所述步驟(II)。

5.如權利要求1～4中任一項所述的方法，其中所述光學各向異性層在20℃下的面內延遲為10nm以上。

6.如權利要求1～5中任一項所述的方法，其中所述聚合物具有未反應的反應性基團。

7.如權利要求1～6中任一項所述的方法，其中所述光學各向異性層是通過以下步驟形成的層：用含有具有至少一個反應性基團的液晶性化合物的溶液涂布，干燥涂布上的溶液形成液晶相，然后加熱或用電離輻射照射所述液晶相，從而導致聚合和固定。

8.如權利要求7所述的方法，其中所述液晶性化合物具有聚合條件不同的兩種以上的反應性基團。

9.如權利要求8所述的方法，其中所述液晶性化合物至少具有自由基反應性基團和陽離子反應性基團。

10.如權利要求9所述的方法，其中所述自由基反應性基團是丙烯酸系基團和/或甲基丙烯酸系基團，所述陽離子反應性基團是乙烯基醚基團、氧雜環丁烷基團和/或環氧基團。

11.如權利要求1～6中任一項所述的方法，其中所述光學各向異性層是拉伸膜。

12.如權利要求1～11中任一項所述的方法，其中通過將具有所述光學各向異性層的轉移材料轉移到目標轉移材料上進行所述步驟(I)。

13.一種通過權利要求1～12中任一項所述方法得到的產品，其在200℃下焙燒30分鐘后的延遲(相差)變化為10％以下。

14.一種通過權利要求1～12中任一項所述方法得到的用作防止偽造手段的產品。

15.一種通過權利要求1～12中任一項所述方法得到的用作光學元件的產品。