[發明專利]覆蓋有薄層的玻璃無效
| 申請號: | 200980110010.8 | 申請日: | 2009-03-20 |
| 公開(公告)號: | CN101980985A | 公開(公告)日: | 2011-02-23 |
| 發明(設計)人: | G·迪斯特法諾 | 申請(專利權)人: | 旭硝子歐洲玻璃公司 |
| 主分類號: | C03C17/23 | 分類號: | C03C17/23;C03C17/36 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 張力更 |
| 地址: | 比利時*** | 國省代碼: | 比利時;BE |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 覆蓋 薄層 玻璃 | ||
1.可鋼化的基本上透明的玻璃,其包含在直空下利用磁控管沉積的薄層體系并具有防陽光和/或低輻射的性能,包含作為保護性表面層的基于鈦氧化物和至少一種具有高硬度的其它金屬氧化物的層,所述具有高硬度的其它金屬氧化物選自包含ZrO2、SiO2、Cr2O3的組。
2.根據權利要求1的玻璃,其中該表面層的除了鈦氧化物以外的一種或多種金屬氧化物占所述層的整體的至少5%重量,并且優選至少10%重量。
3.根據前述權利要求之一的玻璃,其中鈦氧化物占該表面層的至少40%重量。
4.根據前述權利要求之一的玻璃,其中所述表面層還包含通常與所考慮的附加氧化物一起存在的金屬氧化物,這些氧化物以不超過該表面層的所有氧化物的8%重量的比例存在,優選小于5%重量。
5.根據前述權利要求之一的玻璃,其中除了鈦氧化物以外,所述表面層包含比例為15至50%重量的鋯氧化物。
6.根據前述權利要求之一的玻璃,其中該基于鈦氧化物的表面層具有不小于3nm的厚度。
7.根據權利要求1至6之一的玻璃,其中該基于鈦氧化物的表面層具有不大于35nm的厚度。
8.根據前述權利要求之一的玻璃,其中將該基于鈦氧化物的保護性層施加于第一保護性層之上,所述第一保護性層由金屬鈦、或者氮化鈦、Zr或者Zr的氮化物、TiZr或TiZr的氮化物構成。
9.根據前述權利要求之一的玻璃,其中所述表面層本身覆蓋有碳層。
10.根據權利要求9的玻璃,其中所述碳層具有不大于30nm并且優選不大于20nm的厚度。
11.根據權利要求9或10的玻璃,其中所述碳層被臨時應用,這個層通過在氧化性氣氛下在熱處理過程中的氧化而被去除。
12.根據前述權利要求之一的玻璃,其在根據標準ASTM?2486D進行的耐刮劃性測試中導致至多等于30%并且優選至多等于20%的刮劃比率。
13.根據前述權利要求之一的玻璃,其除了該表面層以外還包含至少一個基于銀的功能層和一組介電層,所述介電層被布置在玻璃基材和第一銀層之間,在需要時在每個銀層之間,并且在離該基材最遠的銀層之上。
14.根據權利要求13的玻璃,其包含一個、兩個或三個銀層,每個的厚度為7至20nm。
15.根據前一個權利要求的玻璃,其中每個基于銀的層覆蓋有由NiCr、Nb、Zr、Ti的氧化物或低氧化物形成的犧牲層。
16.根據權利要求13或14的玻璃,其中該一個或多個銀層沉積在基于任選地摻雜有錫或Al或Ga的鋅氧化物的層上。
17.制備根據前述權利要求之一的玻璃的方法,其中所述基于鈦氧化物的表面層包含一種或多種改善其機械耐受性的附加氧化物,該表面層從包含相應的氧化物或低氧化物的混合物的陰極開始,通過在真空下通過磁控管輔助的沉積技術進行沉積。
18.根據權利要求17的方法,其中所述表面層的沉積在輕微氧化性的氣氛中進行。
19.根據權利要求1至7之一的玻璃,其中所述″頂涂層″表面層是下述組中的層體系的組成分,所述組包含:
玻璃/TiO2/ZnO/Ag/NiCr/SiAlN/頂涂層
玻璃/SiAlN/NiCr/Ag/NiCr/SiAlN/頂涂層
玻璃/SiAlN/ZnO/Ag/NiCr/SiAlN/頂涂層
玻璃/SiAlN/ZnO/Ag/NiCr/ZnO/SiAlN/ZnO/Ag/NiCr/頂涂層
玻璃/TiO2/ZnO/Ag/NiCr/SnO2/ZnO/Ag/NiCr/SnO2/頂涂層
下述層是以傳統方式構成的,并且用于發揮其通常的作用,即:
-NiCr作為犧牲層;
-SiAlN作為指示和保護性層;
-TiO2和SnO2作為指示層;
-ZnO作為指示層,但當與銀層接觸和相對小厚度(小于15nm)時也有助于銀層的生長。
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