[發明專利]砜化合物及其制造方法無效
| 申請號: | 200980109246.X | 申請日: | 2009-03-16 |
| 公開(公告)號: | CN101977895A | 公開(公告)日: | 2011-02-16 |
| 發明(設計)人: | 高橋壽也;新宅哲也;奧爾漢·厄茲蒂爾克;藤井遙平 | 申請(專利權)人: | 住友化學株式會社 |
| 主分類號: | C07C315/04 | 分類號: | C07C315/04;C07C317/24;C07C403/22 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 趙曦;金世煜 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 化合物 及其 制造 方法 | ||
1.一種化合物的制造方法,該化合物用Z是氫原子的下式(1)表示,其中,該方法包含:通過進行如下工序,得到式(4)表示的化合物:
使式(3)表示的化合物與氯酸鹽或溴酸鹽反應的第1工序,以及
使第1工序中得到的反應液與HX或X2中的任一反應試劑進行反應的第2工序,HX或X2中,X表示鹵素原子;
式(1)中,A是氫原子或式(2)表示的基團,Ar表示可以有1~3個取代基的芳基;
式(2)中,Ar表示與前述相同含義,波浪線表示其結合的雙鍵的立體構型是E型、Z型或E/Z型的混合物,*表示結合部位;
式(3)中,A以及Ar表示與前述相同含義;
式(4)中,A以及Ar表示與前述相同含義。
2.如權利要求1所述的制造方法,其特征在于,在pH?5以下進行第2工序。
3.如權利要求1或2所述的制造方法,其特征在于,氯酸鹽或溴酸鹽是堿金屬鹽。
4.如權利要求3所述的制造方法,其特征在于,氯酸或溴酸的堿金屬鹽是氯酸鈉或溴酸鈉。
5.如權利要求1~4中任一項所述的制造方法,其特征在于,第2工序中使用的反應試劑是HX,在該HX中,X是溴原子。
6.如權利要求1~4中任一項所述的制造方法,其特征在于,第2工序中使用的反應試劑是X2,在該X2中,X是碘原子。
7.如權利要求1~6中任一項所述的制造方法,其特征在于,Ar是4-甲基苯基。
8.一種化合物的制造方法,該化合物用Z是鹵素原子的下式(1)表示,其中,該方法包含:使式(4)表示的化合物與鹵化劑進行反應,得到式(5)表示的化合物;
式(1)中,A是氫原子或式(2)表示的基團,Ar表示可以有1~3個取代基的芳基;
式(2)中,Ar表示與前述相同含義,波浪線表示其結合的雙鍵的立體構型是E型、Z型或E/Z型的混合物,*表示結合部位;
式(4)中,A以及Ar表示與前述相同含義;
式(5)中,X表示鹵素原子,A以及Ar表示與前述相同含義。
9.如權利要求8所述的制造方法,其中,X是溴原子,鹵化劑是溴、N-溴丁二酰亞胺、或1,3-二溴-5,5-二甲基乙內酰脲。
10.如權利要求8或9所述的制造方法,其特征在于,Ar是4-甲基苯基。
11.一種化合物的制造方法,該化合物用Z是烷氧羰基的下式(1)表示,其中,該方法包含:使式(4)表示的化合物與M(OCOR)n表示的化合物進行反應,得到式(6)表示的化合物;
M(OCOR)n中,M表示金屬原子,R表示碳原子數為1~4的烷基,n表示2到4的整數;
式(1)中,A是氫原子或式(2)表示的基團,Ar表示可以有1~3個取代基的芳基;
式(2)中,Ar表示與前述相同含義,波浪線表示其結合的雙鍵的立體構型是E型、Z型或E/Z型的混合物,*表示結合部位;
式(4)中,A以及Ar表示與前述相同含義;
式(6)中,A、Ar以及R表示與前述相同含義。
12.如權利要求11所述的制造方法,其特征在于,R是甲基,M是錳,n是3。
13.如權利要求11或12所述的制造方法,其特征在于,Ar是4-甲基苯基。
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