[發明專利]親水膜

有效

• 申請號: 200980109158.X
• 申請日: 2009-03-19
• 公開（公告）號: CN101970553A
• 公開（公告）日: 2011-02-09
• 發明（設計）人: 岡崎光樹;川崎登
• 申請（專利權）人: 三井化學株式會社
• 主分類號: C08J7/16
• 分類號: C08J7/16;B32B27/30;C03C17/34
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 楊宏軍

技術領域

本發明涉及一種具有優異的耐劃痕性和透明性的親水膜，及層合體。

背景技術

近年，人們強烈要求改善在玻璃等透明基材表面發生的起霧，及內外壁、浴室、顯示畫面等的污垢。

表面起霧現象是由于微小的水滴附著在表面、光發生漫反射而產生的。作為解決所述課題的方法，可以舉出如下方法等：1)對表面賦予吸水性吸收水滴；2)對表面賦予親水性展開水滴(水膜化)防止光的漫反射；3)加熱表面防止水分凝結，但一般情況下，1)具有飽和后防霧性急劇降低及硬度不足的缺點、3)具有運作成本高的缺點，因此傾向于優選2)的方法。

另一方面，對于改善污垢的要求，具有自清潔性(防污染性)的方法(非專利文獻1、非專利文獻2)受到關注，所述自清潔性是通過使表面具有親水性，利用降雨及撒水等使污垢(空氣疏水性物質等)漂起而有效地除去。

本發明人等已經公開了使表面親水化的方法(專利文獻1)。雖然根據此方法，能夠得到具有極高親水性的膜，優選用作防霧、防污用途，但有時所述膜對玻璃等無機材料的粘合性并不高，所以為無機材料的情況下需要進行底漆的探索等進一步研究。

作為對無機材料賦予高粘合性的親水化方法，可以舉出如下方法：使用反應性的硅烷偶聯劑處理無機類硬涂層的表面后，將親水單體接枝(反應)到殘留在上述表面上的反應性基團上的方法(專利文獻2、專利文獻3)。作為相同的方法，公開了如下方法：使用具有巰基的硅烷偶聯劑和具有包含碳-碳雙鍵的官能團的親水性單體的方法(專利文獻4)；使用具有包含碳-碳雙鍵的官能團的硅烷偶聯劑和具有巰基的親水性單體的方法(專利文獻5)；使用具有氨基的硅烷偶聯劑和具有包含碳-碳雙鍵的官能團的親水性單體的方法(專利文獻6)；使用具有包含碳-碳雙鍵的官能團的硅烷偶聯劑和親水性單體的方法，所述親水性單體除巰基以外還具有與包含碳-碳雙鍵的官能團反應或者相互作用的官能團(專利文獻7、專利文獻8)等。

除此之外，還公開了如下方法：使用具有包含碳-碳雙鍵的官能團的硅烷偶聯劑處理后，用硫酸處理其表面，將殘留于表面的碳-碳雙鍵部分換成羥乙基進行親水化的方法(專利文獻9、專利文獻10、專利文獻11、專利文獻12)等。

專利文獻2～8的方法中，雖然可以進行親水化，但由于使用了3官能以下的硅烷偶聯劑，所以交聯密度低，硬度不充分，難以得到高的耐劃痕性。另外，專利文獻9～12的方法也同樣地雖然可以進行親水化，但難以得到高的耐劃痕性，并且還存在由硫酸處理工序引起的安全性及裝置腐蝕等課題。

專利文獻1：WO2007/064003號公報

專利文獻2：日本特開平4-225301號公報

專利文獻3：日本特開平8-259270號公報

專利文獻4：日本特開2003-5499號公報

專利文獻5：日本特開2000-104046號公報

專利文獻6：日本特開2007-313674號公報

專利文獻7：日本特開2001-194502號公報

專利文獻8：日本特開2001-194503號公報

專利文獻9：日本特開平6-82605號公報

專利文獻10：日本特開平5-341107號公報

專利文獻11：日本特開平5-341108號公報

專利文獻12：日本特開平6-88902號公報

非專利文獻1：高分子，44(5)，307頁

非專利文獻2：未來材料，2(1)，36-41頁

發明內容

本發明提供一種與無機材料粘合性高、更安全、透明性優異、同時實現極高親水性和耐劃痕性的親水膜，及具有該親水膜的層合體。

本發明人等為了解決上述課題，進行了反復研究，結果發現：使用含有具有巰基等的特定硅烷化合物和另一個特定硅烷化合物的混合物在基材上形成層(固化物層)，將特定的親水性化合物涂布于該層上，使其反應，由此可以得到與基材的粘合性優異、并使耐劃痕性提高的具有優異透明性的親水性膜，從而完成了本發明。

即，本發明的親水膜的特征在于：

在由含有下述硅烷化合物(a)及下述硅烷化合物(b)的混合物形成的層的表面上，涂布(c)下述通式(c)表示的化合物，所述硅烷化合物(a)具有1個硅原子、選自巰基、氨基、(甲基)丙烯酰基及乙烯基中的基團和至少1個選自烷氧基、鹵代基及羥基中的與硅原子鍵合的基團；所述硅烷化合物(b)具有選自烷氧基、鹵代基及羥基中的與硅原子鍵合的交聯性基團，不具有與碳-碳雙鍵具有反應性的基團，