[發(fā)明專利]有機場致發(fā)光元件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200980108794.0 | 申請日: | 2009-02-27 |
| 公開(公告)號: | CN101990718A | 公開(公告)日: | 2011-03-23 |
| 發(fā)明(設計)人: | 福松敬之;市橋郁美;宮崎浩;小田敦 | 申請(專利權(quán))人: | 新日鐵化學株式會社;財團法人山形縣產(chǎn)業(yè)技術(shù)振興機構(gòu) |
| 主分類號: | H01L51/50 | 分類號: | H01L51/50;C07D487/04;C07D493/14;C09K11/06 |
| 代理公司: | 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 賈成功 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 機場 發(fā)光 元件 | ||
1.一種有機場致發(fā)光元件用空穴注入材料,其特征在于,其包含下述通式(1)表示的羧酸衍生物,
其中,X表示O或N-R,R表示H或1價的取代基。
2.一種有機場致發(fā)光元件,其是在對置的陽極和陰極之間具有至少1層的發(fā)光層和空穴注入層的有機場致發(fā)光元件,其特征在于,具有含有下述通式(1)表示的羧酸衍生物的空穴注入層,
其中,X表示O或N-R,R表示H或1價的取代基。
3.如權(quán)利要求2所述的有機場致發(fā)光元件,其特征在于,在含有通式(1)表示的羧酸衍生物的空穴注入層或與該空穴注入層鄰接的層的至少一層中,含有電離電位為6.0eV以下的空穴傳輸性材料。
4.如權(quán)利要求3所述的有機場致發(fā)光元件,其中,與空穴注入層鄰接的層為空穴傳輸層或發(fā)光層。
5.如權(quán)利要求3所述的有機場致發(fā)光元件,其中,電離電位為6.0eV以下的空穴傳輸性材料為芳胺類空穴傳輸性材料。
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





