[發明專利]基于廢氣阻抗的端點檢測

有效

• 申請號: 200980107986.X
• 申請日: 2009-03-13
• 公開（公告）號: CN101971300A
• 公開（公告）日: 2011-02-09
• 發明（設計）人: T·R·特納;E·魯;J·坎農
• 申請（專利權）人: 福斯瑞科技公司
• 主分類號: H01L21/3065
• 分類號: H01L21/3065
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 譚志強

1.一種用于測量廢氣阻抗的系統，其特征在于包括：

一反應物輸送系統；

一與反應物輸送系統連接的工藝腔，反應物輸送系統用于提供反應物，反應物用于使工藝腔內的薄膜揮發；

一排氣管，揮發的薄膜廢氣通過排氣管從工藝腔中排出；

一電極組件，位于排氣管內，電極暴露于從工藝腔排出的揮發的薄膜廢氣中；

一與電極組件相連接的電離能輸送網路，電離能輸送網路用于將電離能信號施加于電極組件，其中施加于電極組件的電離能信號引發電極組件與排氣管間的等離子體放電；以及

一與電極組件相連接的檢測器，檢測器用于檢測正在工藝腔內進行的一工藝過程的端點。

2.根據權利要求1所述的系統，其特征在于該系統進一步包括：

接口電路可連接反應物輸送系統，電離能量輸送電路和檢測器，接口電路用于接收反應物輸送系統傳來觸發信號，電離能量輸送系統因觸發信號而啟動。

3.根據權利要求1所述的系統，其特征在于該系統進一步包括：

接口電路可與反應物輸送系統、電離能量輸送電路和檢測器連接，接口電路用于將從檢測器來的端點信號提供給反應物輸送系統，反應物輸送系統可根據該端點信號停止向工藝腔輸送反應物。

4.根據權利要求1所述的系統，其特征在于所述的工藝腔包含在化學氣相沉積（CVD）制程機臺內部。

5.根據權利要求1所述的系統，其特征在于所述的CVD制程機臺用于沉積器件的鍍層，器件可為半導體器件，紡織品，顯示器件和光電器件中的一種。

6.根據權利要求1所述的系統，其特征在于所述的檢測器收集至少一個以下所列參數：

電離能的電壓；

電離能的電流；

電離能的相位角；?

電離能的輸送功率；

電離能的阻抗（Z）；

電離能的電阻（R）；

電離能的電抗（X）；以及

與電離能相關的發電機的發出功率或反射功率信號。

7.根據權利要求1所述的系統，其特征在于所述的檢測器收集射頻信號的阻抗。

8.根據權利要求1所述的系統，其特征在于所述的檢測器包括用于確定正在工藝腔內進行的工藝過程的端點的處理電路，端點是根據至少一個以下所列參數而確定的：

電離能的電壓；

電離能的電流；

電離能的相位角；

電離能的輸送功率；

電離能的阻抗（Z）；

電離能的電阻（R）；

電離能的電抗（X）；以及

與電離能相關的發電機的發出功率或反射功率信號。

9.根據權利要求1所述的系統，其特征在于所述的檢測器與反應物輸送系統接口，其中反應物輸送系統中的處理電路用于根據檢測器所提供的信號確定正在工藝腔內進行的工藝過程的端點，這些信號包括至少一個以下所列參數：

電離能的電壓；

電離能的電流；

電離能的相位角；

電離能的輸送功率；

電離能的阻抗（Z）；

電離能的電阻（R）；

電離能的電抗（X）；以及

與電離能相關的發電機的發出功率或反射功率信號。

10.根據權利要求1所述的系統，其特征在于所述的包含工藝腔并與檢測器相連接的制程機臺包括用于根據檢測器所提供的信號確定正在工藝腔內進行的工藝過程的端點的處理電路，這些信號包括至少一個以下所列參數：

電離能的電壓；

電離能的電流；

電離能的相位角；

電離能的輸送功率；

電離能的阻抗（Z）；

電離能的電阻（R）；

電離能的電抗（X）；以及

與電離能相關的發電機的發出功率或反射功率信號。