[發明專利]排氣氣體凈化裝置

有效

• 申請號: 200980106912.4
• 申請日: 2009-02-23
• 公開（公告）號: CN101970819A
• 公開（公告）日: 2011-02-09
• 發明（設計）人: 小野泰右;神田俊久
• 申請（專利權）人: 洋馬株式會社
• 主分類號: F01N3/08
• 分類號: F01N3/08;B01D53/34;B01D53/56;B01D53/81;B01D53/94;F01N3/02;F01N3/10;F01N3/24;F01N3/28;F01N3/36;F01N7/08
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 胡曉萍

1.一種排氣氣體凈化裝置，其與內燃機或燃燒設備的發動機側排氣通路連接，其特征在于，包括：

多個分岔排氣通路，這些分岔排氣通路與所述發動機側排氣通路連接；

合流排氣通路，該合流排氣通路使所述各分岔排氣通路在該各分岔排氣通路的排氣下游側合流；

排氣氣體阻斷元件，該排氣氣體阻斷元件打開或關閉所述各分岔排氣通路的排氣入口，從而在允許排氣氣體從所述發動機側排氣通路流入所述各分岔排氣通路的狀態和阻斷排氣氣體從所述發動機側排氣通路流入所述各分岔排氣通路的狀態之間切換；

氮氧化物吸附材，該氮氧化物吸附材被設在所述各分岔排氣通路內，在空氣過剩氣氛中暫時吸附氮氧化物，并使該吸附后的氮氧化物在還原氣氛中脫離；

還原氣氛產生元件，該還原氣氛產生元件在所述各分岔排氣通路內配置于所述氮氧化物吸附材的排氣上游側，具有空氣供應元件，并且將從該空氣供應元件供應來的空氣制成還原氣氛；以及

選擇性還原催化劑，該選擇性還原催化劑設于所述合流排氣通路內，并將氨作為還原劑對氮氧化物進行選擇性還原。

2.如權利要求1所述的排氣氣體凈化裝置，其特征在于，所述還原氣氛產生元件是由空氣供應元件、燃料供應元件和點火元件構成的第一燃燒裝置。

3.如權利要求1或2所述的排氣氣體凈化裝置，其特征在于，作為所述氮氧化物吸附材的成分，包含Pt、Pd、Rh中的至少一種。

4.如權利要求1至3中任一項所述的排氣氣體凈化裝置，其特征在于，還包括氧化催化劑，該氧化催化劑在所述合流排氣通路內配置于所述選擇性還原催化劑的排氣下游側。

5.如權利要求1至3中任一項所述的排氣氣體凈化裝置，其特征在于，

還包括第二燃燒裝置，該第二燃燒裝置在所述合流排氣通路內配置于所述選擇性還原催化劑的排氣下游側。

所述第二燃燒裝置由空氣供應元件、燃料供應元件和點火元件構成。

6.如權利要求5所述的排氣氣體凈化裝置，其特征在于，還包括過濾構件，該過濾構件在所述合流排氣通路內配置于所述第二燃燒裝置的排氣下游側，且可對排氣氣體中的粒狀物質加以捕獲。

7.如權利要求1至6中任一項所述的排氣氣體凈化裝置，其特征在于，

所述氮氧化物吸附材被調整成排氣氣體的整個溫度區域內的規定溫度以上的高溫區域中的吸附性能比其他區域中的吸附性能高。

所述選擇性還原催化劑被調整成排氣氣體的整個溫度區域內的比所述規定溫度低的低溫區域中的凈化性能比其他區域中的凈化性能高。

8.如權利要求1至7中任一項所述的排氣氣體凈化裝置，其特征在于，還包括控制裝置，該控制裝置將所述排氣氣體阻斷元件和所述各還原氣氛產生元件控制成使一個所述還原氣氛產生元件工作的再生運轉的實施期間為另一個所述分岔排氣通路中的通常運轉期間的最終階段。