[發(fā)明專利]光學(xué)元件的成形方法及成形裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200980106870.4
• 申請日: 2009-03-02
• 公開（公告）號: CN101959809A
• 公開（公告）日: 2011-01-26
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 早坂崇;鹽澤久;三保拓也;苗加裕陽;境貴洋;伊藤賢二;栗原聰;宇田川賢司;渡部章一
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社尼康
• 主分類號: C03B11/12
• 分類號: C03B11/12;G02B3/00
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 李洋

1.一種光學(xué)元件的成形方法，依序成形多個光學(xué)元件，其包含：

在元件加熱部對光學(xué)元件進行預(yù)備加熱的動作；

將預(yù)備加熱后的光學(xué)元件從該元件加熱部輸送至成形模的動作；

在該成形模中，將該光學(xué)元件一邊加熱至較玻璃轉(zhuǎn)變點高的溫度、一邊進行成形的動作；

將已成形的光學(xué)元件在較玻璃轉(zhuǎn)變點低且400℃以上的溫度下從成形模取出的動作；

將從成形模取出的光學(xué)元件，利用加熱至較該光學(xué)元件溫度低不到200℃的溫度的構(gòu)件加以把持輸送至冷卻部的動作；以及

在該冷卻部冷卻該光學(xué)元件的動作。

2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)元件的成形方法，其中，在將上述光學(xué)元件輸送至上述成形模時，利用加熱至較該光學(xué)元件溫度低不到200℃的溫度的上述構(gòu)件加以把持并輸送至上述成形模。

3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)元件的成形方法，其中，冷卻部具有與光學(xué)元件相接觸的部位，該部位的溫度維持在較要輸送至冷卻部的光學(xué)元件的溫度低不到200℃的溫度。

4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)元件的成形方法，其中，使上述構(gòu)件與不同于該構(gòu)件的加熱體接觸而進行加熱。

5.如權(quán)利要求1至4中任一項所述的光學(xué)元件的成形方法，其中，多個光學(xué)元件包含至少第1至第3光學(xué)元件，在對第1光學(xué)元件進行預(yù)備加熱時，成形第2光學(xué)元件且將第3光學(xué)元件在上述冷卻部冷卻。

6.如權(quán)利要求1至5中任一項所述的光學(xué)元件的成形方法，其中，在對第1光學(xué)元件進行預(yù)備加熱的期間，加熱上述構(gòu)件。

7.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)元件的成形方法，其中，上述構(gòu)件具有抵接于光學(xué)構(gòu)件的抵接部及減壓吸引光學(xué)元件的吸引口。

8.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)元件的成形方法，其中，在上述光學(xué)元件的加熱及冷卻時，該構(gòu)件從光學(xué)元件脫離。

9.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)元件的成形方法，其中，上述元件加熱部具有多個加熱區(qū)域，在這些加熱區(qū)域中光學(xué)元件受到階段性加熱。

10.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)元件的成形方法，其中，冷卻部具有多個冷卻區(qū)域，在這些冷卻區(qū)域中光學(xué)元件受到階段性冷卻。

11.一種成形裝置，將光學(xué)元件成形，其具備：

成型部，將光學(xué)元件一邊加熱至較玻璃轉(zhuǎn)變點高的溫度、一邊進行成形；

冷卻部，將已在成型部成形的光學(xué)元件冷卻；

輸送部，具有可裝卸地把持光學(xué)元件的把持部，在光學(xué)元件的溫度較該玻璃轉(zhuǎn)變點低且為400℃以上的溫度下，通過把持部把持該光學(xué)元件并從成型部取出而輸送至上述冷卻部；以及

加熱部，將上述把持部加熱至較從成型部取出的光學(xué)元件的溫度低不到200℃的溫度。

12.如權(quán)利要求11所述的成形裝置，其中，上述加熱部具有傳熱板，通過使上述把持部接觸于傳熱板來加熱該把持部。

13.如權(quán)利要求11所述的成形裝置，其中，上述把持部具有減壓吸附光學(xué)元件的吸氣口。

14.如權(quán)利要求12所述的成形裝置，其中，把持部具有抵接于光學(xué)元件的抵接部，通過使該抵接部接觸于上述傳熱板而受到加熱。

15.如權(quán)利要求14所述的成形裝置，其中，上述抵接部由選自耐高溫性樹脂、低熱傳導(dǎo)性陶瓷及耐熱玻璃所組成的組中的一種所形成。

16.如權(quán)利要求11所述的成形裝置，其中，上述把持部在將上述光學(xué)元件輸送至冷卻部之后，解除對該光學(xué)元件的把持，并在從把持部解除的狀態(tài)下冷卻光學(xué)元件。

17.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)元件的成形裝置，其中，上述冷卻部具備冷卻溫度不同的多個散熱裝置。

18.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)元件的成形裝置，其進一步具有對光學(xué)元件進行預(yù)備加熱的元件加熱部。

19.如權(quán)利要求18所述的光學(xué)元件的成形裝置，其中，上述元件加熱部具備加熱溫度不同的多個加熱裝置。

20.如權(quán)利要求18所述的光學(xué)元件的成形裝置，其中，上述元件加熱部、上述成型部及上述冷卻部設(shè)于惰性氣體環(huán)境的成形室，該成形室附設(shè)有真空室，在該成形室與該真空室之間安裝有開閉自如的門。