[發明專利]自主自適應半導體制造有效
| 申請號: | 200980104562.8 | 申請日: | 2009-03-05 |
| 公開(公告)號: | CN102016730A | 公開(公告)日: | 2011-04-13 |
| 發明(設計)人: | S·考歇爾;S·帕特爾;杉島賢次 | 申請(專利權)人: | 東京毅力科創株式會社 |
| 主分類號: | G05B13/02 | 分類號: | G05B13/02 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人: | 侯穎媖;錢靜芳 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 自主 自適應 半導體 制造 | ||
1.一種半導體工具系統,包括:
用于制作產品的一組工具,所述一組工具中的每一工具生成促進所述產品的制作的產品資產;
一組自主學習系統,每一自主學習系統駐留在所述一組工具中的每一工具中并優化每一工具的性能;以及
從所述一組工具接收打包數據并生成優化所述產品的制作的知識的不同的自主學習系統。
2.如權利要求1所述的系統,其特征在于,所述產品的經優化的制作包括所述一組工具的經優化的平均無故障時間。
3.如權利要求1所述的系統,其特征在于,所述產品的經優化的制作包括經優化的平均修理時間。
4.如權利要求1所述的系統,其特征在于,所述產品的經優化的制作包括通過反向鏈接來優化的制作過程。
5.如權利要求4所述的系統,其特征在于,用于產品降級的反向鏈接包括根據產品降級來對一組工具中的每一工具進行排序。
6.如權利要求5所述的系統,其特征在于,所述產品的經優化的制作包括學習預測一組零件的故障。
7.如權利要求6所述的系統,其特征在于,還包括利用預期故障時間來優化零件庫存。
8.如權利要求1所述的系統,其特征在于,所述產品的經優化的制作包括學習預測用于自舉的一組因素。
9.如權利要求7所述的系統,其特征在于,還包括優化所述用于自舉的一組因素。
10.如權利要求1所述的系統,其特征在于,每一自主學習系統包括存儲所述知識的存儲器平臺,其中所述存儲器平臺包括存儲器分層結構。
11.如權利要求1所述的系統,其特征在于,每一自主學習系統包括處理數據的平臺,其中所述平臺包括操作接收到的打包數據的一組功能單元。
12.如權利要求11所述的系統,其特征在于,知識網絡促進所述存儲器平臺中的存儲器分層結構、處理所述打包數據的平臺中的所述一組功能單元、或其組合之間的通信。
13.如權利要求10所述的系統,其特征在于,所述存儲器分層結構包括長期存儲器、短期存儲器、以及情節存儲器。
14.如權利要求11所述的系統,其特征在于,所述一組功能單元包括存儲器平臺和處理數據的平臺。
15.如權利要求11所述的系統,其特征在于,所述一組功能單元包括標識所述一組工具中的每一工具的降級狀況的至少一個單元。
16.如權利要求15所述的系統,其特征在于,所述降級狀況評估第一制作過程與第二制作過程中的一組特征之間的差異。
17.如權利要求15所述的系統,其特征在于,降級狀況包括單個數字值,所述數字值評估兩個N元組向量之間的距離,其中每一向量中的每一元組是觀察到的數據的計算得到的度量,并且N是正整數。
18.如權利要求17所述的系統,其特征在于,所述數字正整數值是歐幾里得距離。
19.如權利要求17所述的系統,其特征在于,所述數字值是余弦相似性度量。
20.如權利要求1所述的系統,其特征在于,產品資產包括用于制作產品的過程的至少一部分的制法。
21.如權利要求1所述的系統,其特征在于,產品資產包括與對產品進行的測量相關聯的一組觀察到的數據。
22.如權利要求21所述的系統,其特征在于,所述觀察到的數據包括折射率、吸收系數、發展檢查臨界尺寸、或最終檢查臨界尺寸中的至少一個。
23.如權利要求21所述的系統,其特征在于,產品資產還包括所述觀察到的數據的一組計算得到的度量。
24.如權利要求23所述的系統,其特征在于,所述一組度量包括均值、標準差值、或均勻度值中的至少一個。
25.如權利要求1所述的系統,其特征在于,產品資產包括至少部分地處理的固態半導體材料。
26.一種用于分發產品資產的方法,所述方法包括:
接收產品資產,
至少部分地基于自主學習系統所生成的知識來處理所述產品資產;以及
分發經處理的產品資產。
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