[發明專利]用于制備一鹵化二烷基鋁的方法有效
| 申請號: | 200980101056.3 | 申請日: | 2009-05-07 |
| 公開(公告)號: | CN101868466A | 公開(公告)日: | 2010-10-20 |
| 發明(設計)人: | 高橋秀也;西田忠雄;古賀誠二郎;奧谷雅則 | 申請(專利權)人: | 日本烷基鋁株式會社 |
| 主分類號: | C07F5/06 | 分類號: | C07F5/06 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 王旭 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 制備 鹵化 烷基 方法 | ||
1.一種用于制備一鹵化二烷基鋁的方法,其特征在于,將鹵化鋅與三烷基鋁反應以生成二烷基鋅和一鹵化二烷基鋁,并且在通過蒸餾從反應產物分離所述二烷基鋅以后,將與溶解在所述反應產物中的鋅組分的摩爾比為0.40以上的金屬鋁與所述反應產物混合,然后將混合物蒸餾,以分離基本上不包含鋅組分的所述一鹵化二烷基鋁。
2.根據權利要求1所述的用于制備一鹵化二烷基鋁的方法,其特征在于所述金屬鋁包含過渡金屬,其中相對于鋁的原子比為0.0010以上和0.10以下。
3.根據權利要求1所述的用于制備一鹵化二烷基鋁的方法,其特征在于所述三烷基鋁為三乙基鋁。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于日本烷基鋁株式會社,未經日本烷基鋁株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200980101056.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:含雜原子的乙烯類單體的聚合
- 下一篇:玻璃基板的蝕刻處理方法





