[發明專利]位置測量系統及位置測量方法、移動體裝置、移動體驅動方法、曝光裝置及曝光方法、圖案形成裝置、以及組件制造方法有效
| 申請號: | 200980100313.1 | 申請日: | 2009-02-06 |
| 公開(公告)號: | CN101796614A | 公開(公告)日: | 2010-08-04 |
| 發明(設計)人: | 牧野內進 | 申請(專利權)人: | 株式會社尼康 |
| 主分類號: | H01L21/027 | 分類號: | H01L21/027;G01B11/00;G01D5/36;G03F7/20;H01L21/68 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 許海蘭 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 位置 測量 系統 測量方法 移動 裝置 驅動 方法 曝光 圖案 形成 以及 組件 制造 | ||
1.一種位置測量系統,對沿著包含相互正交的第1軸及第2軸的 規定平面移動的移動體的位置信息進行測量,上述位置測量系統的特 征在于包括:
第1固定光柵及第2固定光柵,在上述移動體的外部分別延伸設 置于平行于上述第1軸的方向,其中上述第1固定光柵以平行于上述 第1軸的方向為周期方向,上述第2固定光柵以平行于上述第2軸的 方向為周期方向;
光學構件,具有把與上述第1及第2固定光柵的周期方向對應的 方向分別作為其周期方向的第1及第2移動光柵,并被安裝于上述移 動體;以及
第1及第2感光系統,分別對應于上述第1及第2固定光柵,
包含上述第1固定光柵、上述第1移動光柵、及上述第1感光系 統,構成對與平行于上述第1軸的方向相關的上述移動體的位置信息 進行測量的第1測量裝置,
包含上述第2固定光柵、上述第2移動光柵、及上述第2感光系 統,構成對與平行于上述第2軸的方向相關的上述移動體的位置信息 進行測量的第2測量裝置。
2.根據權利要求1所述的位置測量系統,其特征在于:
上述光學構件以平行于上述第2軸的方向為長邊方向,就上述長 邊方向,具有與上述移動體的平行于上述第2軸的方向的長度相同程 度以上的長度。
3.根據權利要求1或2所述的位置測量系統,其特征在于:
上述第1及第2移動光柵配置于上述光學構件之一面。
4.根據權利要求3所述的位置測量系統,其特征在于:
上述光學構件還包括:
以與上述第1及第2固定光柵的周期方向對應的方向分別作為周 期方向、且分別配置于不同于上述一面的另一面的第3及第4移動光 柵。
5.根據權利要求1或2所述的位置測量系統,其特征在于:
將上述第1及第2固定光柵配置在平行于與上述移動體相對向的 上述規定平面的面上。
6.根據權利要求5所述的位置測量系統,其特征在于:
將上述第1及第2固定光柵在平行于上述第2軸的方向上隔開距 離地配置。
7.根據權利要求1或2所述的位置測量系統,其特征在于:
上述第1及第2固定光柵,就平行于上述第1軸的方向,具有與 上述移動體的移動行程相同程度以上的長度。
8.根據權利要求1或2所述的位置測量系統,其特征在于:
上述第1測量裝置還包括:在上述移動體的外部延伸設置于平行 于上述第1軸的方向且以平行于上述第1軸的方向為周期方向的第3 固定光柵;與上述第3固定光柵對應的第3感光系統,基于上述第1 感光系統與上述第3感光系統的輸出,進一步測量上述移動體在圍繞 正交于上述規定平面的第3軸的旋轉方向的位置信息。
9.一種移動體裝置,包括:
移動體,沿著包含相互正交的第1軸及第2軸的規定平面移動;
權利要求1至8中任一項所述的位置測量系統,對上述移動體的 上述規定平面內的位置信息進行測量;以及
驅動裝置,基于由上述位置測量系統所測量的上述移動體的位置 信息,沿著規定平面驅動上述移動體。
10.根據權利要求9所述的移動體裝置,其特征在于:
構成上述位置測量系統的一部分的上述光學構件被安裝于上述 移動體的重心附近。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





