[發(fā)明專利]制造光電轉(zhuǎn)換設(shè)備的方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200980100176.1 | 申請(qǐng)日: | 2009-06-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101785138A | 公開(公告)日: | 2010-07-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鈴木祐輔;諸岡正浩;多田圭志;長(zhǎng)野安則;米屋麗子;折橋正樹;高田晴美;朱誠 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 索尼公司 |
| 主分類號(hào): | H01M14/00 | 分類號(hào): | H01M14/00;H01L31/04 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11258 | 代理人: | 李曉冬;南霆 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制造 光電 轉(zhuǎn)換 設(shè)備 方法 | ||
1.一種制造光電轉(zhuǎn)換設(shè)備的方法,所述方法包括如下步驟:
將具有預(yù)定形狀的隔離壁的隔離構(gòu)件置于用于光電轉(zhuǎn)換設(shè)備的半導(dǎo)體電極上,并且通過向由所述隔離壁分開的各部分中放入不同染料溶液而使預(yù)定染料被吸附;并且
在經(jīng)過預(yù)定時(shí)間之后,從所述隔離構(gòu)件去除在與所述各部分相對(duì)應(yīng)的預(yù)定區(qū)域中吸附有染料的半導(dǎo)體電極。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造光電轉(zhuǎn)換設(shè)備的方法,
其中,所述隔離構(gòu)件為具有底部的容器型形狀,并且
在使染料被吸附的步驟中,在染料溶液被放入所述隔離構(gòu)件的各部分中之后,將半導(dǎo)體電極置于所述隔離構(gòu)件的開口側(cè)上,密封容器型的所述隔離構(gòu)件,倒置此狀態(tài)下的被密封的所述隔離構(gòu)件,從而使染料被吸附在半導(dǎo)體電極上的預(yù)定區(qū)域中,所述預(yù)定區(qū)域與所述各部分相對(duì)應(yīng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造光電轉(zhuǎn)換設(shè)備的方法,
其中,所述隔離構(gòu)件具有中空形狀,并且
在使染料被吸附的步驟中,所述隔離構(gòu)件被置于半導(dǎo)體電極上,在所述隔離構(gòu)件的底部是半導(dǎo)體電極的狀態(tài)中,從所述隔離構(gòu)件的開口側(cè)注入染料溶液,從而使染料被吸附在半導(dǎo)體電極上的預(yù)定區(qū)域中,所述預(yù)定區(qū)域與所述各部分相對(duì)應(yīng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造光電轉(zhuǎn)換設(shè)備的方法,
其中,所述隔離構(gòu)件由具有第一部分的第一隔離構(gòu)件和具有與所述第一部分不同的第二部分的第二隔離構(gòu)件形成,并且
在使染料被吸附的步驟中,在通過所述第一隔離構(gòu)件使染料吸附在半導(dǎo)體電極上的第一區(qū)域中之后,通過所述第二隔離構(gòu)件使染料吸附在半導(dǎo)體電極上與所述第一區(qū)域不同的第二區(qū)域中,所述第一區(qū)域與所述第一部分相對(duì)應(yīng),所述第二區(qū)域與所述第二部分相對(duì)應(yīng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造光電轉(zhuǎn)換設(shè)備的方法,
其中,所述半導(dǎo)體電極和所述隔離構(gòu)件通過粘合劑彼此粘結(jié),或者通過接合墊彼此壓裝。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制造光電轉(zhuǎn)換設(shè)備的方法,
其中,所述半導(dǎo)體電極和所述隔離構(gòu)件通過在所述隔離構(gòu)件被密封的狀態(tài)中通過真空泵對(duì)所述隔離構(gòu)件的內(nèi)部空間進(jìn)行減壓而彼此粘結(jié)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造光電轉(zhuǎn)換設(shè)備的方法,
其中,所述光電轉(zhuǎn)換設(shè)備是染料敏化太陽能電池。
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