[發(fā)明專利]等離子體處理裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200980000455.0
• 申請(qǐng)日: 2009-02-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101720503A
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-06-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 伊藤融;永關(guān)澄江
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L21/3065
• 分類號(hào): H01L21/3065;H05H1/46;H05H1/00
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 李偉;舒艷君

1.一種等離子體處理裝置，其特征在于，具備：

處理室，其在內(nèi)部配置被處理基板；

氣體供給機(jī)構(gòu)，其向所述處理室內(nèi)供給規(guī)定的處理氣體；

排氣機(jī)構(gòu)，其從所述處理室內(nèi)排氣；

等離子體產(chǎn)生機(jī)構(gòu)，其在所述處理室內(nèi)產(chǎn)生所述處理氣體的等離子 體；

等離子體監(jiān)測(cè)裝置，其具備：將探針配置于所述處理室內(nèi)的同軸電 纜；與所述同軸電纜連接、并檢測(cè)被所述探針檢測(cè)出的等離子體中存在 的電磁波的頻率分布的測(cè)定部，

所述測(cè)定部檢測(cè)等離子體中存在的不同頻率成分以及邊帶成分中 的至少一方。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

具備多個(gè)所述處理室，并具有控制部，該控制部基于所述等離子體 監(jiān)測(cè)裝置的檢測(cè)結(jié)果，控制等離子體以便使多個(gè)所述處理室內(nèi)的等離子 體的狀態(tài)一致。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子體處理裝置，其特征在于，

所述控制部控制所述氣體供給機(jī)構(gòu)、所述排氣機(jī)構(gòu)以及所述等離子 體產(chǎn)生機(jī)構(gòu)中的至少一個(gè)。

4.一種等離子體處理裝置，其特征在于，具備：

處理室，其在內(nèi)部配置被處理基板；

氣體供給機(jī)構(gòu)，其向所述處理室內(nèi)供給規(guī)定流量的處理氣體；

排氣機(jī)構(gòu)，其將所述處理室設(shè)定為規(guī)定的真空度；

等離子體產(chǎn)生機(jī)構(gòu)，其具有高頻電源，在所述處理室內(nèi)產(chǎn)生所述處 理氣體的等離子體；

測(cè)定部，將探針插入到所述等離子體中來(lái)檢測(cè)等離子體中存在的不 同頻率成分以及邊帶成分中的至少一方；

控制單元，其基于所述檢測(cè)結(jié)果，控制所述氣體供給機(jī)構(gòu)、所述排 氣機(jī)構(gòu)以及所述等離子體產(chǎn)生機(jī)構(gòu)中的至少一個(gè)。