[發明專利]基板處理裝置、磁性設備的制造裝置及制造方法

有效

• 申請號: 200980000400.X
• 申請日: 2009-03-02
• 公開（公告）號: CN101903559A
• 公開（公告）日: 2010-12-01
• 發明（設計）人: 細谷裕之;恒川孝二;永峰佳紀
• 申請（專利權）人: 佳能安內華股份有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/24
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

1.一種基板處理裝置，其特征在于，

包括：

基板保持架，支承基板；

磁鐵保持架，配置在上述基板保持架的周圍；

磁鐵，能移動地載置在上述磁鐵保持架上；

支承構件，面向上述磁鐵地突出設置在上述基板保持架上；

連結構件，配置于上述磁鐵上，與上述支承構件結合；

旋轉機構，使上述基板保持架或上述磁鐵保持架中的至少一個轉動；

連結切換機構，在通過上述旋轉機構的轉動而使上述支承構件與上述連結構件的位置對齊時，使上述基板保持架上下運動而將上述支承構件與上述連結構件結合或脫離，切換是否對上述基板施加磁場。

2.根據權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

在上述支承構件與上述連結構件的抵接面形成有凹凸形狀的嚙合部。

3.根據權利要求1或2所述的基板處理裝置，其特征在于，

上述磁鐵是環狀磁鐵或棒磁鐵。

4.一種磁性設備的制造裝置，其特征在于，

權利要求1所述的基板處理裝置是包括陰極單元的濺射裝置；

并且，上述濺射裝置經由包括真空輸送機構的真空輸送室與去除基板處理面的雜質的基板前處理室、將上述基板的金屬薄膜進行氧化處理的氧化處理室、和在真空空間與大氣之間取出或放入上述基板的加載互鎖真空室連接。

5.一種磁性設備的制造方法，該磁性設備向能夠排成真空的室內導入處理氣體，在基板周圍配置在該基板的處理面上形成磁場的磁鐵，對陰極單元施加電壓而在該陰極單元與基板保持架之間發生等離子體放電，對安裝于上述陰極單元的靶進行濺射而在基板的處理面形成包含磁性層的薄膜，其特征在于，

包括下述的工序：

向上述基板保持架上搬入上述基板的工序；

在上述基板保持架上結合上述磁鐵的工序；

通過使上述基板保持架和上述磁鐵一同旋轉，對上述基板保持架上的基板施加一個方向磁場而形成磁性膜的工序；

將上述基板保持架與上述磁鐵脫離的工序；

通過使上述磁鐵處于備用的狀態、而僅使上述基板保持架旋轉，在上述基板保持架上的基板上形成非磁性膜的工序。