[發明專利]一種渦旋式壓縮機組件及其制造方法、及渦旋式壓縮機

有效

• 申請號: 201710109901.8
• 申請日: 2017-02-28
• 公開（公告）號: CN106762631B
• 公開（公告）日: 2018-10-12
• 發明（設計）人: 陳曉曉;史正良;單彩俠;康小麗;朱勁波
• 申請（專利權）人: 珠海格力節能環保制冷技術研究中心有限公司
• 主分類號: F04C18/02
• 分類號: F04C18/02;F04C29/00;C22C21/02;C25D11/06
• 代理公司: 北京煦潤律師事務所 11522
• 代理人: 周倩;梁永芳

1.一種渦旋式壓縮機組件，其特征在于，包括動渦旋件(1)和靜渦旋件(2)；

所述動渦旋件(1)包括第一主體(11)，所述靜渦旋件(2)包括第二主體(21)；定義所述第一主體(11)上與所述第二主體(21)相對的表面為第一表面，所述第二主體(21)上與所述第一主體(11)相對的表面為第二表面；

所述第一表面和所述第二表面處通過微弧氧化處理形成陶瓷層(3)，以減少所述動渦旋件(1)和所述靜渦旋件(2)的工作磨損；

所述第一主體(11)和所述第二主體(21)均由鋁合金材料制成，所述鋁合金材料的組成成分包括(以重量百分數計)：9-14％Si、0.5-3％Cu、Mg≤1％，Fe＞1％、Zn≤0.8％、Ni≤0.5％，其余為Al；

所述陶瓷層(3)為鋁氧化物層。

2.根據權利要求1所述的渦旋式壓縮機組件，其特征在于，所述陶瓷層(3)的厚度為5-30μm。

3.根據權利要求2所述的渦旋式壓縮機組件，其特征在于，所述陶瓷層(3)的厚度為10-20μm。

4.根據權利要求1-3任一項所述的渦旋式壓縮機組件，其特征在于，所述陶瓷層(3)的截面維氏顯微硬度不小于900HV。

5.根據權利要求1-3任一項所述的渦旋式壓縮機組件，其特征在于，所述陶瓷層(3)的表面粗糙度不大于1μm。

6.根據權利要求5所述的渦旋式壓縮機組件，其特征在于，所述陶瓷層(3)的表面經過拋光處理，拋光厚度為2-5μm。

7.根據權利要求1-3或6任一項所述的渦旋式壓縮機組件，其特征在于，所述陶瓷層(3)的表面設置有潤滑層(4)，所述潤滑層(4)的表面粗糙度不大于1μm。

8.根據權利要求7所述的渦旋式壓縮機組件，其特征在于，所述潤滑層(4)的厚度為5-15μm。

9.根據權利要求7所述的渦旋式壓縮機組件，其特征在于，所述潤滑層(4)為有機硅層、聚四氟乙烯層或二硫化鉬層中的一種。

10.一種渦旋式壓縮機，其特征在于，包括權利要求1-9任一項所述的渦旋式壓縮機組件。

11.一種權利要求1-9任一項所述的渦旋式壓縮機組件的制造方法，其特征在于，包括以下步驟：

對所述第一主體(11)的第一表面和所述第二主體(21)的第二表面進行微弧氧化處理，使所述第一表面處和所述第二表面處形成所述陶瓷層(3)。

12.根據權利要求11所述的渦旋式壓縮機組件的制造方法，其特征在于，將所述第一主體(11)、和/或所述第二主體(21)置于電解液中進行微弧氧化處理，所述電解液的組成成分包括：

磷酸鹽10-15g/L、鎢酸2-5g/L、氫氧化鈉0.2-1.5g/L、EDTA二鈉1.5-5g/L。

13.根據權利要求12所述的渦旋式壓縮機組件的制造方法，其特征在于，進行微弧氧化處理的反應條件為：

電源脈沖頻率400-700Hz、脈沖占空比10-20％、電流密度2.5-6.5A/dm2、電壓300-500V、微弧氧化時間為10-30min，所使用的電解液的溫度為20-40℃。

14.根據權利要求11-13任一項所述的渦旋式壓縮機組件的制造方法，其特征在于，還包括以下步驟：

對所述陶瓷層(3)進行拋光，使拋光后的所述陶瓷層(3)的表面粗糙度Ra不大于1μm。

15.根據權利要求14所述的渦旋式壓縮機組件的制造方法，其特征在于，對所述陶瓷層(3)進行拋光的拋光厚度為2-5μm。

16.根據權利要求11-13或15任一項所述的渦旋式壓縮機組件的制造方法，其特征在于，當包括潤滑層(4)時，所述渦旋式壓縮機組件的制造方法還包括以下步驟：

在所述陶瓷層(3)的表面烘烤固化形成所述潤滑層(4)；所述潤滑層(4)為有機硅層、聚四氟乙烯層或二硫化鉬層中的一種；且使所述潤滑層(4)的表面粗糙度不大于1μm，厚度為5-15μm。