[實(shí)用新型]拱壩的下游壩趾結(jié)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200920304082.3 | 申請(qǐng)日: | 2009-06-08 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN201495528U | 公開(kāi)(公告)日: | 2010-06-02 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王仁坤;趙文光;趙永剛;張沖;陳麗萍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)水電顧問(wèn)集團(tuán)成都勘測(cè)設(shè)計(jì)研究院 |
| 主分類號(hào): | E02B7/12 | 分類號(hào): | E02B7/12 |
| 代理公司: | 成都虹橋?qū)@聞?wù)所 51124 | 代理人: | 劉世平 |
| 地址: | 610072*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 拱壩 下游 結(jié)構(gòu) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及筑壩領(lǐng)域,具體涉及拱壩的下游壩趾結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)
拱壩主要是以壓力拱的形式,將荷載傳到兩岸山體,并以壩基礎(chǔ)的聯(lián)合作用完成正常的擋水任務(wù)。一般而言,設(shè)計(jì)者都希望:1)拱端推力能盡可能指向山體內(nèi)部,確保證拱壩整體穩(wěn)定;2)減少壩趾壓應(yīng)力過(guò)分集中,消除局部壓剪破壞。現(xiàn)有拱壩的下游壩趾結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)不合理,造成拱壩下游壩面靠近基巖處的應(yīng)力集中現(xiàn)象較嚴(yán)重。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型所解決的技術(shù)問(wèn)題是:提供一種可有效消除下游壩面靠近基巖處應(yīng)力集中現(xiàn)象的拱壩的下游壩趾結(jié)構(gòu)。
解決上述技術(shù)問(wèn)題的技術(shù)方案是:拱壩的下游壩趾結(jié)構(gòu),在下游壩面與基巖之間的夾角部位設(shè)置有下游貼腳。
本實(shí)用新型的有益效果是:通過(guò)增設(shè)下游貼腳有助于改善拱壩壩趾周邊的拉壓應(yīng)力組合現(xiàn)象,同時(shí)下游貼腳對(duì)壩趾起到重要的保護(hù)作用,改善該部位的應(yīng)力分布形態(tài)。該結(jié)構(gòu)施工便利,投資節(jié)省,具有較高的技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益,是一種簡(jiǎn)單、實(shí)用的結(jié)構(gòu)形式。該結(jié)構(gòu)形式適合于所有拱壩壩型中應(yīng)用,比如常態(tài)混凝土拱壩、碾壓混凝土拱壩、砌石拱壩以及堆石混凝土拱壩。
附圖說(shuō)明
圖1為本申請(qǐng)拱壩的下游壩趾結(jié)構(gòu)的示意圖。
圖中標(biāo)記為:上游壩面1、下游壩面2、倒角3、下游貼腳4、基巖頂托5、基巖6。
圖1中箭頭所示方向?yàn)楹恿鞣较颉?/p>
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步的說(shuō)明。
如圖1所示的拱壩的下游壩趾結(jié)構(gòu),在下游壩面2與基巖6之間的夾角部位設(shè)置有下游貼腳4。通過(guò)增設(shè)下游貼腳4有助于改善拱壩壩趾周邊的拉壓應(yīng)力組合現(xiàn)象,同時(shí)下游貼腳對(duì)壩趾起到重要的保護(hù)作用,改善該部位的應(yīng)力分布形態(tài)。
如圖1所示,下游貼腳4沿河流方向由厚變薄,使其頂表面沿河流方向由上至下傾斜,有助于改善拱壩壩趾周邊的拉壓應(yīng)力組合現(xiàn)象,從而盡可能使得拱端推力指向山體內(nèi)部,提高拱壩壩肩整體穩(wěn)定性。
如圖1所示,所述下游貼腳4的頂表面呈沿河流方向下降的臺(tái)階狀,從而可以利用所述臺(tái)階作為后續(xù)施工時(shí)的工作臺(tái)面。
如圖1所示,為了避免下游貼腳4與下游壩面2之間小角度相交產(chǎn)生應(yīng)力集中,所述下游貼腳4的頂表面與下游壩面2之間平順連接,比如在下游貼腳4上與下游壩面2的連接部位設(shè)置倒角3,從而避免直接過(guò)渡形成應(yīng)力集中。
實(shí)施例
在圖1所示的下游貼腳結(jié)構(gòu)中,在基巖6的表面設(shè)有與下游貼腳4的下游側(cè)相接觸的基巖頂托5。基巖頂托5給予下游貼腳4往上游方向的頂托作用,并通過(guò)下游貼腳4傳遞到壩體端部,可以使得拱端推力進(jìn)一步指向山體內(nèi)部,提高拱壩壩肩整體穩(wěn)定性。同時(shí),該實(shí)施例直接將下游貼腳4與壩體進(jìn)行一體澆筑成型,中間不設(shè)縫,澆筑成型后下游壩面2與下游貼腳4為一體結(jié)構(gòu),這樣具有施工效率高的優(yōu)點(diǎn),并且一體成型后相當(dāng)于使拱端尺寸增大,因此具有均化拱端受力,進(jìn)一步緩解應(yīng)力集中的優(yōu)點(diǎn)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)水電顧問(wèn)集團(tuán)成都勘測(cè)設(shè)計(jì)研究院,未經(jīng)中國(guó)水電顧問(wèn)集團(tuán)成都勘測(cè)設(shè)計(jì)研究院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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