[實用新型]單晶爐用石墨坩堝無效
| 申請號: | 200920284030.4 | 申請日: | 2009-12-10 |
| 公開(公告)號: | CN201560248U | 公開(公告)日: | 2010-08-25 |
| 發明(設計)人: | 任明煒 | 申請(專利權)人: | 江蘇大學 |
| 主分類號: | C30B15/10 | 分類號: | C30B15/10 |
| 代理公司: | 南京知識律師事務所 32207 | 代理人: | 汪旭東 |
| 地址: | 212013 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 單晶爐用 石墨 坩堝 | ||
【權利要求書】:
1.一種單晶爐用石墨坩堝,由圓筒狀的坩堝本體(3)構成,其特征是:坩堝本體(3)由兩瓣或三瓣塊體(1)組成,坩堝本體(3)外表面具有間隔均勻且高度相同的小凸臺(4)。
2.根據權利要求1所述的單晶爐用石墨坩堝,其特征是:小凸臺(4)的截面形狀為正方形、長方形或螺紋形;小凸臺(4)的高度為1~10mm。
下載完整專利技術內容需要扣除積分,VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于江蘇大學,未經江蘇大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200920284030.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:提花機用電磁選針裝置
- 下一篇:集成有原子層沉積工藝的化學氣相沉積設備





