[實用新型]一種非晶合金真空射料裝置及包括該真空射料裝置的壓鑄機

有效

• 申請號: 200920262038.0
• 申請日: 2009-12-26
• 公開（公告）號: CN201618837U
• 公開（公告）日: 2010-11-03
• 發明（設計）人: 孫帥
• 申請（專利權）人: 比亞迪股份有限公司
• 主分類號: B22D17/02
• 分類號: B22D17/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于非晶合金壓鑄機的真空射料裝置(100)，其特征在于，該真空射料裝置(100)包括料筒(150)，以及可在所述料筒(150)內往復運動的壓射部件(140)，在料筒(1?50)上設有進料口(1?5?1)和出料口(152)，在料筒進料口處設有冷卻裝置(170)，在出料口處設有加熱裝置(180)。

2.根據權利要求1所述的真空射料裝置(100)，其特征在于，所述料筒(150)的平均直徑為30-50mm。

3.根據權利要求1所述的真空射料裝置(100)，其特征在于，所述真空射料裝置(100)還包括設置在所述壓射部件(140)與料筒之間，以使所述壓射部件(140)與料筒形成密封的密封體(130)。

4.根據權利要求1所述的真空射料裝置(100)，其特征在于，所述的冷卻裝置(150)為盤管冷卻器或蛇管冷卻器。

5.根據權利要求1所述的真空射料裝置(100)，其特征在于，所述的加熱裝置(180)為感應加熱裝置或電阻棒加熱裝置。

6.根據權利要求1所述的真空射料裝置(100)，其特征在于，所述的冷卻裝置的長度為料筒長度的1/4-1/2。

7.根據權利要求1所述的真空射料裝置(100)，其特征在于，所述的加熱裝置的長度為料筒長度的1/4-1/3。

8.一種非晶合金壓鑄機，所述壓鑄機包括熔煉室(200)、模具(300)、真空射料裝置(100)，所述熔煉室(200)和所述模具(300)分別與所述真空射料裝置(100)密封連接，所述的真空射料裝置(100)為權利要求1-7中任意一項所述的真空射料裝置。