[實用新型]一種輝光放電離子源裝置有效
| 申請號： | 200920246956.4 | 申請日： | 2009-11-10 |
| 公開（公告）號： | CN201590398U | 公開（公告）日： | 2010-09-22 |
| 發明（設計）人： | 劉湘生;劉英;潘元海;李繼東;王長華 | 申請（專利權）人： | 北京有色金屬研究總院 |
| 主分類號： | H01J49/10 | 分類號： | H01J49/10 |
| 代理公司： | 北京北新智誠知識產權代理有限公司 11100 | 代理人： | 朱麗華 |
| 地址： | 100088*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 輝光 放電 離子源 裝置 | ||
1.一種輝光放電離子源裝置，其特征在于它包括：
一采樣盤體，該采樣盤體具有一個空心腔室和中部外凸出的圓柱筒，空心腔室帶有進氣口和抽氣口，圓柱筒的外端口內插或外插一變徑帽；
一樣品盤體，樣品盤體中部有一規環，該樣品盤體套罩于采樣盤體上的圓柱筒外圍并均勻保持環形空間間距，樣品盤體中內置冷卻水套；
樣品緊壓在樣品盤體上，與變徑帽端面間保持縫隙間距；
樣品盤體與采樣盤體之間相互絕緣，樣品盤體與采樣盤體的圓柱筒軸向同心。
2.根據權利要求1所述的輝光放電離子源裝置，其特征在于：所述的樣品通過水冷托塊被一活動加壓架的加壓頂桿緊壓在樣品盤體上。
3.根據權利要求1所述的輝光放電離子源裝置，其特征在于：所述的樣品盤體與采樣盤體之間采用一絕緣墊規相互絕緣，在采樣盤體與絕緣墊規間、樣品盤體與絕緣墊規間設有真空密封圈。
4.根據權利要求1所述的輝光放電離子源裝置，其特征在于：所述的采樣盤體與樣品盤體間的環形空間間距為0.15mm～0.2mm。
5.根據權利要求1所述的輝光放電離子源裝置，其特征在于：所述的樣品表面與變徑帽端面間的縫隙間距為0.15mm～0.2mm。
6.根據權利要求1所述的輝光放電離子源裝置，其特征在于：所述的變徑帽匹配相應的規環使分析樣品濺射圓斑直徑分別為φ3mm、φ4mm、φ5mm、φ6mm、φ8mm、φ10mm和φ12mm。
7.根據權利要求1所述的輝光放電離子源裝置，其特征在于：所述的輝光放電離子源通過輝光放電離子源質譜接口裝置準直地安裝在質譜儀離子光學系統的軸心上。
8.根據權利要求6所述的輝光放電離子源裝置，其特征在于：所述的樣品濺射表面至放電離子源質譜接口裝置的離子出口錐錐孔間的距離為12mm。
9.根據權利要求1所述的輝光放電離子源裝置，其特征在于：所述的采樣盤體、樣品盤體、變徑帽由不銹鋼或黃銅材料制成；規環由可機加工陶瓷絕緣材料或黃銅、不銹鋼材料制做。
10.根據權利要求1所述的輝光放電離子源裝置，其特征在于：所述的規環用陶瓷絕緣材料制作，樣品盤體與采樣盤體的圓柱筒外圍的環形空間間距為0.15mm。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京有色金屬研究總院，未經北京有色金屬研究總院許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200920246956.4/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種高穩定整流橋
- 下一篇：一種用于等離子封接陶瓷金鹵燈的陶瓷爐裝置
