[實用新型]一種觸摸屏、觸摸系統(tǒng)及光源

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200920246915.5
• 申請日: 2009-11-12
• 公開（公告）號: CN201927010U
• 公開（公告）日: 2011-08-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 葉新林;劉建軍;劉新斌
• 申請（專利權(quán)）人: 北京匯冠新技術(shù)股份有限公司
• 主分類號: G06F3/042
• 分類號: G06F3/042;F21V13/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及光電檢測技術(shù)，尤其涉及一種觸摸屏、觸摸系統(tǒng)及光源。

背景技術(shù)

現(xiàn)有技術(shù)中，使用光電技術(shù)進行觸摸點檢測的觸摸屏主要有兩種：一種是使用紅外發(fā)射和接收管陣列構(gòu)成紅外線掃描網(wǎng)格的紅外觸摸屏；另一種是使用攝像頭等光學(xué)傳感單元作為檢測元件的光學(xué)觸摸屏。

其中，在上述光學(xué)觸摸屏中需要提供光源，以為所述光學(xué)傳感單元提供檢測光線。所述光源發(fā)出的光線分布于觸摸面板的觸摸檢測區(qū)上，光學(xué)傳感單元用以獲取發(fā)生于所述觸摸檢測區(qū)上的觸摸數(shù)據(jù)。

隨著材料的改良及其在應(yīng)用上的進步，各種不同形態(tài)的光源也伴隨著不同的需求而被開發(fā)、改良，大體上都是向節(jié)省能源、增進亮度的方向前進。

然而，實踐中發(fā)現(xiàn)，盡管在進行光源改良后，包含所述光源的觸摸屏在絕大多數(shù)工作條件下運行良好，但是，在光學(xué)傳感單元(如攝像頭)的幀頻較高時，檢測環(huán)境的些許變化都可能影響到所述光學(xué)傳感單元對觸摸的判斷，換言之，在光學(xué)傳感單元的幀頻較高時，檢測結(jié)果的可靠性較差。因此，當(dāng)前，業(yè)界普遍致力于如何改善檢測環(huán)境的穩(wěn)定性，具體地，如，如何增強光源照射的均勻性。

但是，實踐中發(fā)現(xiàn)，應(yīng)用現(xiàn)有的技術(shù)方案增強光線均勻性時，實際效果仍然有待改善，業(yè)界需要一種新的可增強光線均勻性的技術(shù)方案。

實用新型內(nèi)容

針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，本實用新型提供了一種觸摸屏，利于增強分布于其內(nèi)觸摸檢測區(qū)上的光線的均勻性；本實用新型提供了一種觸摸系統(tǒng)，利于增強分布于其內(nèi)觸摸屏中觸摸檢測區(qū)上的光線的均勻性；本實用新型提供了一種光源，利于增強由其發(fā)出的光線的均勻性。

本實用新型提供的一種觸摸屏，包括光源、觸摸檢測區(qū)、光學(xué)傳感單元和控制單元，所述光源置于所述觸摸檢測區(qū)的至少一個側(cè)邊，所述光學(xué)傳感單元用以獲取發(fā)生于所述觸摸檢測區(qū)上的觸摸數(shù)據(jù)，所述控制單元耦?接于所述光學(xué)傳感單元并利用從所述光學(xué)傳感單元獲取的所述觸摸數(shù)據(jù)確定觸摸位置；所述光源包括發(fā)光體、導(dǎo)光體和反射單元，所述發(fā)光體置于所述導(dǎo)光體的端口，所述反射單元形成于所述導(dǎo)光體內(nèi)遠離所述觸摸檢測區(qū)的側(cè)面處，所述發(fā)光體發(fā)出的光線射入所述導(dǎo)光體并在所述導(dǎo)光體內(nèi)傳輸，在所述導(dǎo)光體內(nèi)傳輸?shù)牟糠止饩€經(jīng)由所述反射單元反射后分布于所述觸摸檢測區(qū)。

可選地，所述反射單元為反射板，所述反射板與所述導(dǎo)光體分立或附著于所述導(dǎo)光體內(nèi)遠離所述觸摸檢測區(qū)的側(cè)面，所述反射板中面向所述導(dǎo)光體的側(cè)面形成有反射面；或

所述反射單元為反射膜，所述反射膜附著或形成于所述導(dǎo)光體內(nèi)遠離所述觸摸檢測區(qū)的側(cè)面。

可選地，當(dāng)所述反射單元為反射膜時，所述導(dǎo)光體內(nèi)遠離所述觸摸檢測區(qū)的側(cè)面包括至少兩個斜面組，各所述斜面組包括具有夾角的兩斜面，各所述斜面組連續(xù)排列；

相鄰的所述斜面組具有相同的夾角，或者，所述斜面組沿所述導(dǎo)光體的縱切面方向時，各所述斜面組的夾角由所述導(dǎo)光體的端口至中心逐漸減小，所述斜面組沿所述導(dǎo)光體的橫切面方向時，各所述斜面組的夾角由所述導(dǎo)光體內(nèi)遠離所述觸摸檢測區(qū)的側(cè)面的兩邊至中心逐漸減小，且平行于各所述斜面的直線也平行于所述觸摸檢測區(qū)；

可選地，各所述斜面組等高；或者，所述斜面組沿所述導(dǎo)光體的縱切面方向時，各所述斜面組的高度由所述導(dǎo)光體及/或所述反射板的端口至中心逐漸增大，所述斜面組沿所述導(dǎo)光體的橫切面方向時，各所述斜面組的高度由所述導(dǎo)光體內(nèi)遠離所述觸摸檢測區(qū)的側(cè)面及/或所述反射面的兩邊至中心逐漸增大。

可選地，當(dāng)所述反射單元為反射膜時，所述導(dǎo)光體內(nèi)遠離所述觸摸檢測區(qū)的側(cè)面包括至少兩個弧面，各所述弧面連續(xù)排列；

相鄰的所述弧面具有相同的弧長和弧度，或者，各所述弧面沿所述導(dǎo)光體的縱切面方向時，具有相同弧長的各所述弧面的弧度由所述導(dǎo)光體的端口至中心逐漸增大，具有相同弧度的各所述弧面的弧長由所述導(dǎo)光體的端口至中心逐漸減小，各所述弧面沿所述導(dǎo)光體的橫切面方向時，具有相同弧長的各所述弧面的弧度由所述導(dǎo)光體內(nèi)遠離所述觸摸檢測區(qū)的側(cè)面的兩邊至中心逐漸增大；具有相同弧度的各所述弧面的弧長由所述導(dǎo)光體內(nèi)遠離所述觸摸檢測區(qū)的側(cè)面的兩邊至中心逐漸減小，且平行于各所述弧面?中心軸的直線也平行于所述觸摸檢測區(qū)；

可選地，當(dāng)所述反射單元為反射膜時，所述導(dǎo)光體內(nèi)遠離所述觸摸檢測區(qū)的側(cè)面包括至少兩個矩形斷面，各所述矩形斷面連續(xù)排列；