[實用新型]一種具有次推進劑分布式噴注機構的爆震室

無效

• 申請號: 200920245770.7
• 申請日: 2009-12-14
• 公開（公告）號: CN201588707U
• 公開（公告）日: 2010-09-22
• 發明（設計）人: 范瑋;王育虔;彭暢新;嚴傳俊;謝開成
• 申請（專利權）人: 西北工業大學
• 主分類號: F02K9/60
• 分類號: F02K9/60
• 代理公司: 西北工業大學專利中心 61204
• 代理人: 王鮮凱

1.一種具有次推進劑分布式噴注機構的爆震室，其特征在于包括次推進劑的分布式噴注機構和爆震室；爆震室為圓筒狀，一端為主推進劑噴注面板，另一端為敞口結構；分布式噴注機構的噴注桿(2)一端穿過并固定于噴注面板中心，螺旋(5)穿過并固定于噴注面板；分布式噴注機構沿爆震室中心軸延伸至爆震室出口，長度與脈沖爆震發動機爆震室長度相等，分布式噴注機構的噴注桿(2)的外徑與爆震室內徑之比不大于2/3，噴注桿(2)上的螺旋槽(3)的螺距與爆震室直徑相等。

2.根據權利要求1所述的具有次推進劑分布式噴注機構的爆震室，其特征在于：：所述的分布式噴注機構包括噴注桿(2)、螺旋槽(3)、噴注孔(4)、螺旋(5)和次噴注孔(6)；噴注桿(2)的內部為形成容腔的通孔結構，噴注桿的外表面設有等螺距的半圓形螺旋槽(3)，沿著螺旋槽底部，設有與容腔相通的噴注孔(4)；在噴注桿(2)的外圈，嵌入螺旋槽中纏繞有螺旋(5)，螺旋(5)上設有若干個次噴注孔(6)；所述的螺旋(5)為圓形繞絲，自噴注桿(2)固定端以繞絲的一半突出螺旋槽(3)的方式纏繞，長度為6-8倍螺旋(5)螺距；其余部份繞絲為半圓形，且與半圓形螺旋槽(3)外沿平齊；所述噴注孔(4)或次噴注孔(6)的直徑小于0.5mm，兩孔中心間距大于孔徑的二倍；所述的噴注孔(4)與次噴注孔(6)數量相等。

3.根據權利要求1所述的具有次推進劑分布式噴注機構的爆震室，其特征在于：所述螺旋槽(3)的半圓形槽的半徑不大于噴注桿(2)半徑的1/2。