[實用新型]全自動雙面曝光機(jī)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200920216232.5 | 申請日: | 2009-09-18 |
| 公開(公告)號: | CN201532523U | 公開(公告)日: | 2010-07-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張鴻明 | 申請(專利權(quán))人: | 川寶科技股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;H05K3/00 |
| 代理公司: | 天津三元專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 12203 | 代理人: | 鄭永康 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 全自動 雙面 曝光 | ||
1.一種全自動雙面曝光機(jī),其特征在于,包括:
一機(jī)臺,于同一軸線上至少設(shè)置有入料區(qū)、第一面曝光區(qū)、下降翻板區(qū)、上升供板區(qū)、第二面曝光區(qū)與出料區(qū);
一入料移載裝置,跨設(shè)于該機(jī)臺的入料區(qū)、第一面曝光區(qū)與下降翻板區(qū)的上方,而將板件由入料區(qū)移載至第一面曝光區(qū),再由第一面曝光區(qū)移載至下降翻板區(qū);
第一曝光裝置,設(shè)置于該機(jī)臺的第一面曝光區(qū),而以搭配有升降機(jī)構(gòu)的第一頂升平臺,承接該入料移載裝置自入料區(qū)移載過來的板件,再由該第一頂升平臺將板件頂升貼靠于第一曝光平臺的下緣;
一下降翻板裝置,設(shè)置于該機(jī)臺的下降翻板區(qū),而以一搭配有升降機(jī)構(gòu)及翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的吸板平臺,吸著住該入料移載裝置自第一面曝光區(qū)移載過來的板件,并下降且將板件翻面,而由第一輸送平臺承接板件;
一上升供板裝置,設(shè)置于該機(jī)臺的上升供板區(qū),而以搭配有升降機(jī)構(gòu)的第二輸送平臺,承接自第一輸送平臺輸送過來的板件且上升供板;
一出料移載裝置,跨設(shè)于該機(jī)臺的上升供板區(qū)、第二面曝光區(qū)與出料區(qū)的上方,而將由該上升供板裝置供板的板件移載至第二面曝光區(qū),再由第二面曝光區(qū)移載至與出料區(qū);
第二曝光裝置,設(shè)置于該機(jī)臺的第二面曝光區(qū),而以搭配有升降機(jī)構(gòu)的第二頂升平臺,承接該出料移載裝置自上升供板區(qū)移載過來的板件,再由該第二頂升平臺將板件頂升貼靠于第二曝光平臺的下緣;
一單光源曝光模組,設(shè)置于該機(jī)臺的上方且與各工作區(qū)位于同一軸線上,而將單一光源的光束于鏡碗中集光后,向上投射至一可切換偏轉(zhuǎn)向的冷光鏡,反射后經(jīng)由第一或第二聚焦鏡照射于第一或第二平面反射鏡,再反射至第一或第二曲面反射鏡,而反射成平行光束照射于第一或第二曝光平臺。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全自動雙面曝光機(jī),其特征在于:所述機(jī)臺于下降翻板區(qū)與上升供板區(qū)間進(jìn)一步設(shè)置有清潔區(qū),而將一清潔裝置設(shè)置于該清潔區(qū),該清潔裝置乃對自第一輸送平臺輸送至第二輸送平臺的板件,進(jìn)行板件表面的清潔工作。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的全自動雙面曝光機(jī),其特征在于:所述單光源曝光模組的冷光鏡,以伺服馬達(dá)切換其偏轉(zhuǎn)向。
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