[實(shí)用新型]曝光底片的對(duì)位靶標(biāo)圖樣

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200920216230.6
• 申請(qǐng)日: 2009-09-18
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN201532522U
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-07-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張鴻明
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 川寶科技股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G03F1/14
• 分類(lèi)號(hào): G03F1/14;G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 天津三元專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 12203
• 代理人: 錢(qián)凱

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種曝光底片的對(duì)位靶標(biāo)圖樣。

背景技術(shù)

電路板的曝光程序，是令放置于曝光框的曝光底片及待曝光基板，先于曝光機(jī)外部的對(duì)位區(qū)進(jìn)行對(duì)位的工作，然后再將曝光框送入曝光機(jī)內(nèi)部的曝光室，把曝光底片的電路圖樣借由曝光的過(guò)程，復(fù)制到待曝光基板；其中，對(duì)位工作如圖1所示，乃于上、下曝光玻璃11、12吸附上、下底片21、22，然后將上、下層貼附有上、下光阻干膜32、33的基板30，放置于上、下底片21、22之間，讓對(duì)位光源所發(fā)散的對(duì)位光線，經(jīng)上底片21的環(huán)形靶標(biāo)211、基板30的對(duì)位孔31及下底片22的圓形靶標(biāo)221，而由攝影機(jī)40擷取對(duì)位影像，進(jìn)而控制基板30調(diào)整其相對(duì)于上、下底片21、22的位置，完成對(duì)位的工作。

次按，曝光后的基板送至顯影槽，將該上、下光阻干膜32、33未被曝光光源照射而固化的部分溶解，讓電路圖樣顯現(xiàn)出來(lái)；然而，如圖2所示，由于現(xiàn)有曝光底片的對(duì)位靶標(biāo)圖樣，一為環(huán)形靶標(biāo)211而另一為圓形靶標(biāo)221，故當(dāng)進(jìn)行顯影工作時(shí)，該上光阻干膜32被環(huán)形靶標(biāo)211所覆蓋的區(qū)域，因未被曝光光源照射固化而溶解，但該上光阻干膜32位于環(huán)形靶標(biāo)211環(huán)內(nèi)與環(huán)外的區(qū)域，皆因已被曝光光源照射而固化，乃形成未被溶解的環(huán)內(nèi)固化物321與環(huán)外固化物323，但因環(huán)內(nèi)固化物321未與環(huán)外固化物323連接在一起，而脫離基板漂浮在顯影槽中，其可能阻塞顯影槽或黏附于基板上，造成顯影制程的困擾或基板的瑕疵。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型所要解決的主要技術(shù)問(wèn)題在于，克服現(xiàn)有技術(shù)存在的上述缺陷，而提供一種曝光底片的對(duì)位靶標(biāo)圖樣，令所有的光阻膜固化物都固著于基板上，具有不會(huì)形成脫離基板的光阻膜固化物的功效。

本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：

一種曝光底片的對(duì)位靶標(biāo)圖樣，其特征在于，是令上、下曝光底片的對(duì)位靶標(biāo)圖樣，一為環(huán)形靶標(biāo)而另一為圓形靶標(biāo)，且于該環(huán)形靶標(biāo)至少形成有一貫通環(huán)內(nèi)與環(huán)外的斷環(huán)留白區(qū)，借以將該環(huán)形靶標(biāo)的環(huán)內(nèi)留白區(qū)與環(huán)外留白區(qū)連接。

本實(shí)用新型的有益效果是，令所有的光阻膜固化物都固著于基板上，具有不會(huì)形成脫離基板的光阻膜固化物的功效。

附圖說(shuō)明

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明。

圖1是電路板對(duì)位工作的示意圖。

圖2是使用現(xiàn)有曝光底片所形成的環(huán)內(nèi)固化物會(huì)脫離基板的示意圖。

圖3是本實(shí)用新型的對(duì)位靶標(biāo)圖樣示意圖。

圖4是使用本實(shí)用新型所形成的環(huán)內(nèi)固化物會(huì)與環(huán)外固化物連接的示意圖。

圖中標(biāo)號(hào)說(shuō)明：

11?上曝光玻璃

12?下曝光玻璃

21?上底片

211、211’?環(huán)形靶標(biāo)

212?環(huán)內(nèi)留白區(qū)

213?斷環(huán)留白區(qū)

214?環(huán)外留白區(qū)

22?下底片

221?圓形靶標(biāo)

30?基板

31?對(duì)位孔

32?上光阻干膜

321?環(huán)內(nèi)固化物

322?連接固化物

323?環(huán)外固化物

33?下光阻干膜

40?攝影機(jī)

具體實(shí)施方式

首先，請(qǐng)參閱圖3、圖4所示，本實(shí)用新型是令上、下曝光底片的對(duì)位靶標(biāo)圖樣，一為環(huán)形靶標(biāo)211’而另一為圓形靶標(biāo)221，且于該環(huán)形靶標(biāo)211’至少形成有一貫通環(huán)內(nèi)與環(huán)外的斷環(huán)留白區(qū)213，借以將該環(huán)形靶標(biāo)211’的環(huán)內(nèi)留白區(qū)212與環(huán)外留白區(qū)214連接。

基于如上構(gòu)成，本實(shí)用新型于該環(huán)形靶標(biāo)211’形成的斷環(huán)留白區(qū)213，可將該環(huán)形靶標(biāo)211’的環(huán)內(nèi)留白區(qū)212與環(huán)外留白區(qū)214連接；故當(dāng)完成曝光工作時(shí)，位于該環(huán)內(nèi)留白區(qū)212、斷環(huán)留白區(qū)213與環(huán)外留白區(qū)214等區(qū)域的上光阻干膜32，在受到曝光光源的照射后，乃會(huì)在顯影的過(guò)程中，讓相對(duì)環(huán)內(nèi)留白區(qū)212所形成的環(huán)內(nèi)固化物321，借由相對(duì)斷環(huán)留白區(qū)213所形成的連接固化物322，與環(huán)外留白區(qū)214所形成的環(huán)外固化物323連接在一起，而令所有的光阻膜固化物都固著于基板上，具有不會(huì)形成脫離基板的光阻膜固化物的功效。

以上所述，僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本實(shí)用新型作任何形式上的限制，凡是依據(jù)本實(shí)用新型的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所作的任何簡(jiǎn)單修改、等同變化與修飾，均仍屬于本實(shí)用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。

綜上所述，本實(shí)用新型在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、使用實(shí)用性及成本效益上，完全符合產(chǎn)業(yè)發(fā)展所需，且所揭示的結(jié)構(gòu)亦是具有前所未有的創(chuàng)新構(gòu)造，具有新穎性、創(chuàng)造性、實(shí)用性，符合有關(guān)新型專(zhuān)利要件的規(guī)定，故依法提起申請(qǐng)。