[實(shí)用新型]磁片表面缺陷檢測(cè)設(shè)備

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200920210101.6
• 申請(qǐng)日: 2009-09-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN201514385U
• 公開(kāi)（公告）日: 2010-06-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 沈皓然
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州工業(yè)園區(qū)高登威科技有限公司
• 主分類號(hào): G01N21/88
• 分類號(hào): G01N21/88;G01N21/892
• 代理公司: 蘇州華博知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 32232
• 代理人: 孫敏

1.一種磁片表面缺陷檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，其包括有工作臺(tái)，所述工作臺(tái)上設(shè)置有可圍繞自身中軸線旋轉(zhuǎn)的第一基座以及第一支架；其中所述第一基座與一第一電機(jī)驅(qū)動(dòng)裝置連接，并可在其驅(qū)動(dòng)下進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；且所述基座上還設(shè)置有若干存儲(chǔ)槽；所述第一支架上設(shè)置有檢測(cè)用第一照相機(jī)，其用于為待檢測(cè)的放置于第一基座收容槽內(nèi)的待檢測(cè)磁片進(jìn)行拍照以獲得待測(cè)磁片的表面圖像信息。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁片表面缺陷檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，其中所述第一支架上還設(shè)置有燈光裝置，其設(shè)置于所述檢測(cè)用第一照相機(jī)的下方。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁片表面缺陷檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，其中所述工作臺(tái)上還設(shè)置有第二支架，其上設(shè)置有檢測(cè)用第二照相機(jī)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的磁片表面缺陷檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，其中所述第二支架上還設(shè)置有條形燈光裝置，其設(shè)置于所述檢測(cè)用第二照相機(jī)的下方。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁片表面缺陷檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，其其還包括有第二基座，其上設(shè)置有轉(zhuǎn)動(dòng)盤(pán)和設(shè)置于其下的固定盤(pán)；其中所述轉(zhuǎn)動(dòng)盤(pán)與一第二電機(jī)驅(qū)動(dòng)裝置連接，并可在其驅(qū)動(dòng)下進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，且所述轉(zhuǎn)動(dòng)盤(pán)朝向下的一面上設(shè)置有若干用于收容磁片的收容槽；而所述第二基座的下方還設(shè)置有檢測(cè)用的第三照相機(jī)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的磁片表面缺陷檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，其中所述第一基座與第二基座在空間上部分重疊，而重疊部分，所述第二基座的轉(zhuǎn)動(dòng)盤(pán)位于所述第一基座的上方。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的磁片表面缺陷檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，其中所述第二基座的轉(zhuǎn)動(dòng)盤(pán)上還設(shè)置有真空吸附裝置，其用于將放置在所述第一基座收容槽內(nèi)的待測(cè)磁片吸附到所述第二基座轉(zhuǎn)動(dòng)盤(pán)的收容槽內(nèi)。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的磁片表面缺陷檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，其中所述第二基座的下方還設(shè)置有第四檢測(cè)用照相機(jī)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁片表面缺陷檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，其中所述工作臺(tái)上還設(shè)置有送料裝置。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁片表面缺陷檢測(cè)設(shè)備，其特征在于，其中所述工作臺(tái)上還設(shè)置有次品存放裝置以及待定品存放裝置。