[實用新型]光罩承載架的承載桿有效
| 申請號: | 200920209616.4 | 申請日: | 2009-09-11 |
| 公開(公告)號: | CN201508458U | 公開(公告)日: | 2010-06-16 |
| 發明(設計)人: | 吳旭升 | 申請(專利權)人: | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/00 | 分類號: | G03F1/00 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時云 |
| 地址: | 20120*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 承載 | ||
技術領域
本實用新型設計半導體制造領域的裝置,具體地說,是有關于一種存放光罩的光罩承載架的承載桿。
背景技術
光罩裝載系統包括光罩承載架、底部偵測器、光罩尺寸辨認偵測器。系統通過底部偵測器獲知系統是否裝載上了光罩等待清洗,而光罩尺寸辨認器能夠辨認當時在承載架上到底是5英尺的光罩還是6英尺的光罩。而6009規格的光罩由于比較薄,并且承載架的擺放空間比較大,很容易造成系統把6009規格的光罩認成5009規格的光罩。(6009規格的光罩和6025規格的光罩為6英尺正方形石英板,5009規格的光罩為5英尺正方形石英板)。
光罩裝載系統主要是通過光罩承載架后部的紅外偵測器來區分光罩尺寸的,而底部的光罩擺放確認偵測器對5英尺,6英尺的光罩是通用的。能夠被后部的紅外偵測器探測到的光罩會被機臺識別為6英尺光罩,偵測不到的,會被識別為5英尺光罩。而后部的偵測器是通過紅外偵測來探測,由于紅外線比較細,只要6009規格的光罩擺放不好,就會被機臺識別為5英尺光罩。在識別錯誤的情況下,當機械手臂來抓取6009規格的光罩的時候,設備就會報錯,嚴重的時候會造成光罩的報廢。光罩承載架由四根特氟瓏長桿和一些不銹鋼支架組成,在特氟瓏長桿五個特定位置上各有卡槽,卡槽用來擺放待清洗的光罩。由于6025規格的光罩的尺寸比較大,也比較厚,所以能夠很可靠的被后部的偵測器識別,所以不需要非常準確的定位在支架上。而5009規格的光罩的尺寸小,本身不需要被后部的偵測器識別,就能被機臺識別為5英尺光罩。但是隨著6009規格的光罩的出現,原先的卡槽太大,不能很好的定位這種光罩。
實用新型內容
本實用新型的目的是提供一種光罩承載架的承載桿,可以幫助光罩準確定位。
為達上述目的,本實用新型提出一種光罩承載架的承載桿,其圓周面具有至少一個第一凹槽,該第一凹槽的底部形成一第二凹槽,且第一凹槽適于夾持第一光罩,第二凹槽適于夾持第二光罩。
本實用新型中,第一凹槽的側壁是向第一凹槽的外側傾斜的,且第一凹槽最窄處的寬度小于等于6025規格的光罩的厚度。
本實用新型中,其中第二凹槽的寬度等于6009規格的光罩或5009規格的光罩的厚度。
綜上所述,本實用新型的承載桿上設計有新的承載凹槽結構,可適應兩種不同厚度的光罩,并且把夾持這兩種不同厚度的光罩的凹槽整合在一起,讓同一個凹槽能夠擺放兩種不同的光罩。
附圖說明
圖1所示為本實用新型一實施例的光罩承載架的承載桿的示意圖。
圖2為圖1中承載桿應用于光罩承載架的示意圖。
具體實施方式
為讓本實用新型的上述和其它目的、特征和優點能更明顯易懂,下文特舉較佳實施例,并配合附圖,作詳細說明如下。
圖1所示為本實用新型一實施例的承載桿的示意圖。圖2為圖1中承載桿應用于光罩承載架的示意圖。對于本領域中具有通常知識的人來說,承載桿1如何安裝于光罩承載架10以及承載桿1如何承載光罩(圖中未標出)屬于公知技術,在此不再贅述。下面僅對承載桿的結構進行介紹。
承載桿1其圓周面具有至少一個第一凹槽11,該第一凹槽11的底部形成一第二凹槽12,且第一凹槽11適于夾持第一光罩,第二凹槽12適于夾持第二光罩。
本實用新型中,第一凹槽11的側壁11a、11b是向第一凹槽的外側傾斜的,且第一凹槽最窄處的寬度d小于等于6025規格的光罩的厚度。
本實用新型中,其中第二凹槽的寬度等于6009光罩或5009光罩的厚度。
舉例來說,6009和5009兩種規格的光罩的厚度同為90密耳(mil),mil是一個長度的單位,代表千分之一英寸(inch),1inch≈25.4mm相當于2.3毫米(mm),而6025規格的光罩的厚度為250mil,相當于6.35mm。
專門為6009和5009兩種規格的光罩設計的第二凹槽寬度為2.5mm,可以準確固定6009和5009兩種規格的光罩。在第二凹槽12的外部有更大的一個傾斜的第一凹槽11,第一凹槽11是專門用來擺放6025規格的光罩的。由于凹槽12傾斜角底部最窄處d為5.75mm,小于6025規格的光罩的厚度6.35mm,所以放上6025規格的光罩以后,6025規格的光罩會被卡在這個傾斜角上,所以這個結構不會影響兩種光罩的擺放。
綜上所述,本實用新型的承載桿上設計有新的承載凹槽結構,可適應兩種不同厚度的光罩,并且把這夾持這兩種不同厚度的光罩的凹槽整合在一起,讓同一個凹槽能夠擺放兩種不同的光罩。
本實用新型中所述具體實施案例僅為本實用新型的較佳實施案例而已,并非用來限定本實用新型的實施范圍。即凡依本實用新型申請專利范圍的內容所作的等效變化與修飾,都應作為本實用新型的技術范疇。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





