[實用新型]一種提高利用率的平面磁控濺射靶有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200920201584.3 | 申請日： | 2009-11-27 |
| 公開（公告）號： | CN201598328U | 公開（公告）日： | 2010-10-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 范家秋 | 申請（專利權(quán)）人： | 浙江天翀車燈集團(tuán)有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 浙江杭州金通專利事務(wù)所有限公司 33100 | 代理人： | 王官明 |
| 地址： | 318020 浙江*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 提高 利用率 平面 磁控濺射 | ||
1.一種提高利用率的平面磁控濺射靶，其特征在于包括靶材磁控管外套(4)，靶材磁控管外套(4)的底面連接蓋板(15)，蓋板(15)與靶材磁控管外套(4)之間有冷卻水，靶材磁控管外套(4)內(nèi)部放置磁額(7)，磁額(7)中制有通水孔(8)，磁額(7)上安裝永久磁鐵(6)，靶材磁控管外套(4)上安裝靶材條(1)和靶材條外側(cè)有靶材條固定塊(11)，靶材條(1)成平行相間排列，靶材條之間互相交疊，靶材條(1)的表面為平整面，在靶材磁控管外套(4)和靶材條固定塊(11)外有靶材屏蔽罩(10)，靶材磁控管外套(4)內(nèi)與磁額(7)相連的永久磁鐵(6)的磁極為NSN或者SNS平行排列，并垂直于靶材條(1)的表面。
2.如權(quán)利要求1所述的一種提高利用率的平面磁控濺射靶，其特征在于所述的靶材屏蔽罩(10)與靶材磁控管外套(4)的連接處安裝絕緣墊(12)。
3.如權(quán)利要求1所述的一種提高利用率的平面磁控濺射靶，其特征在于所述的靶材磁控管外套(4)與靶材條固定塊(11)由緊固件(41)相連接。
4.如權(quán)利要求1所述的一種提高利用率的平面磁控濺射靶，其特征在于所述的靶材磁控管外套(4)為U型的鋁合金套。
5.如權(quán)利要求1所述的一種提高利用率的平面磁控濺射靶，其特征在于所述的靶材條(1)的底部有導(dǎo)磁墊(5)。
6.如權(quán)利要求1所述的一種提高利用率的平面磁控濺射靶，其特征在于所述的靶材磁控管外套(4)與蓋板(15)由螺釘(13)相固定。
7.如權(quán)利要求1所述的一種提高利用率的平面磁控濺射靶，其特征在于所述的靶材磁控管內(nèi)額鐵固定在伸縮桿(17)上，伸縮桿(17)與蓋板(15)由螺帽(9)固定。
8.如權(quán)利要求1所述的一種提高利用率的平面磁控濺射靶，其特征在于所述的磁額(7)和永久磁鐵(6)表面鍍有類金剛石膜，類金剛石膜外面涂敷有機硅樹脂膜。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于浙江天翀車燈集團(tuán)有限公司，未經(jīng)浙江天翀車燈集團(tuán)有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200920201584.3/1.html，轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
