[實用新型]激光鐳射滿天星母版有效
| 申請號: | 200920196268.1 | 申請日: | 2009-09-17 |
| 公開(公告)號: | CN201520109U | 公開(公告)日: | 2010-07-07 |
| 發明(設計)人: | 李振華 | 申請(專利權)人: | 紹興虎彩激光材料科技有限公司 |
| 主分類號: | B41N1/04 | 分類號: | B41N1/04 |
| 代理公司: | 紹興市越興專利事務所 33220 | 代理人: | 蔣衛東 |
| 地址: | 312000 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 激光 鐳射 滿天星 母版 | ||
1.激光鐳射滿天星母版,其特征在于:具有浮雕型、可模壓的全息圖案,該全息圖案由相間隔的若干個色塊區構成;色塊區為由若干個同一灰度值的單色塊無間隙緊密排列而成,且具有規則形狀;相鄰的色塊區的單色塊灰度值不同。
2.如權利要求1所述的激光鐳射滿天星母版,其特征在于:所述的色塊區為正方形、菱形、三角形或星形。
3.如權利要求1或2所述的激光鐳射滿天星母版,其特征在于:所述的色塊區的邊長為0.3mm~0.7mm,兩個色塊區之間的間隔周期為1mm~1.4mm。
4.如權利要求3所述的激光鐳射滿天星母版,其特征在于:所述的色塊區灰度值范圍為70~186,灰度間隔為10~45。
5.如權利要求3所述的激光鐳射滿天星母版,其特征在于:所述的色塊區灰度值范圍為70~186,灰度間隔為13~17。
6.如權利要求5所述的激光鐳射滿天星母版,其特征在于:所述的全息圖案若干個色塊區單元重復排列而成,色塊區單元為一個2×2色塊區矩陣。
7.如權利要求5所述的激光鐳射滿天星母版,其特征在于:所述的全息圖案若干個色塊區單元重復排列而成,色塊區單元為一個3×3色塊區矩陣。
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