[實(shí)用新型]鋁箔電解腐蝕裝置無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200920188429.2 | 申請(qǐng)日: | 2009-07-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN201473620U | 公開(公告)日: | 2010-05-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄭德良 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 吳江飛樂天和電子材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | C25F3/04 | 分類號(hào): | C25F3/04;C25F7/00 |
| 代理公司: | 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 32103 | 代理人: | 孫仿衛(wèi) |
| 地址: | 215236 江蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鋁箔 電解 腐蝕 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種鋁箔電解腐蝕裝置。
背景技術(shù)
隨著電子工業(yè)的飛速發(fā)展,鋁電解電容器的應(yīng)用更加廣泛,性能要求也越來越高。鋁電解電容器用腐蝕化成箔是電子信息產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)元器件類產(chǎn)品的電子專用材料。
而現(xiàn)有的鋁箔電解腐蝕裝置,其包括盛載有腐蝕工作液的腐蝕槽體、浸漬在腐蝕工作液中的一對(duì)相對(duì)設(shè)置的石墨電極(接通交流電源)、鋁箔傳輸機(jī)構(gòu),鋁箔傳輸機(jī)構(gòu)將需腐蝕的鋁箔片由下至上從一對(duì)石墨電極之間穿過,鋁箔片由下至上在一對(duì)石墨電極之間穿行,但在由下至上的運(yùn)動(dòng)過程中,鋁箔片的橫向上存在細(xì)微的晃動(dòng),這個(gè)晃動(dòng)必定會(huì)導(dǎo)致鋁箔片上的腐蝕電流不穩(wěn)定,分布不均勻。
發(fā)明內(nèi)容
為解決上述的技術(shù)問題,本實(shí)用新型提供了一種鋁箔電解腐蝕裝置,其包括盛載有腐蝕工作液的腐蝕槽體、浸漬在所述腐蝕工作液中的一對(duì)相對(duì)設(shè)置的石墨電極、鋁箔傳輸機(jī)構(gòu),所述鋁箔傳輸機(jī)構(gòu)將需腐蝕的鋁箔片由下至上從所述一對(duì)石墨電極之間穿過,其中,所述的一對(duì)石墨電極之間放置有懸浮于所述腐蝕工作液上的浮動(dòng)框架,所述的浮動(dòng)框架中開設(shè)有上下貫通的、可以供所述鋁箔片穿過的槽孔。
采用上述技術(shù)方案的鋁箔電解腐蝕裝置,石墨電極之間放置了懸浮于工作液的浮動(dòng)框架,鋁箔傳輸機(jī)構(gòu)將需腐蝕的鋁箔片由下至上從浮動(dòng)框架中的上下貫通的槽孔中穿過。浮動(dòng)框架可以稍微限制鋁箔片的橫向的晃動(dòng),更重要的是其可以跟隨鋁箔片的晃動(dòng)而移動(dòng),從而可以使得腐蝕電流均勻地覆蓋到整個(gè)鋁箔片的表面。
優(yōu)選的,橫向延伸的槽長(zhǎng)比所述鋁箔片的寬度大1mm~10mm。采用這個(gè)槽寬,橫向上,鋁箔片相對(duì)浮動(dòng)框架基本沒有相對(duì)運(yùn)動(dòng),浮動(dòng)框架基本上能和鋁箔片的運(yùn)動(dòng)一致,這樣能使得腐蝕電流能夠更均勻的覆蓋。
附圖說明
附圖1為本實(shí)用新型鋁箔電解腐蝕裝置的結(jié)構(gòu)示意圖;
附圖2為附圖1中A處的放大圖;
1、腐蝕槽體;2、鋁箔傳輸機(jī)構(gòu);3、石墨電極;4、浮動(dòng)框架;41、槽孔。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型鋁箔電解腐蝕裝置進(jìn)行具體說明。
實(shí)施例1
附圖1為本實(shí)用新型鋁箔電解腐蝕裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。一種鋁箔電解腐蝕裝置,其包括盛載有腐蝕工作液的腐蝕槽體1、浸漬在所述腐蝕工作液中的一對(duì)相對(duì)設(shè)置的石墨電極3、鋁箔傳輸機(jī)構(gòu)2,所述鋁箔傳輸機(jī)構(gòu)2將需腐蝕的鋁箔片由下至上從所述一對(duì)石墨電極3之間穿過,所述的一對(duì)石墨電極3之間放置有懸浮于所述腐蝕工作液上的浮動(dòng)框架4,所述的浮動(dòng)框架4中開設(shè)有上下貫通的、可以供所述鋁箔片穿過的槽孔41,具體參見圖2。
采用上述技術(shù)方案的鋁箔電解腐蝕裝置,石墨電極3之間放置了懸浮于工作液的浮動(dòng)框架4,鋁箔傳輸機(jī)構(gòu)2將需腐蝕的鋁箔片由下至上從浮動(dòng)框架4中的上下貫通的槽孔41中穿過。浮動(dòng)框架4可以稍微限制鋁箔片的左右晃動(dòng),更重要的是其可以跟隨鋁箔片的左右晃動(dòng)而移動(dòng),從而可以使得腐蝕電流均勻地覆蓋到整個(gè)鋁箔片的表面。
本實(shí)施例中鋁箔片橫向的寬度約為500m寬,橫向延伸的槽長(zhǎng)比所述鋁箔片的寬度大5mm。
本實(shí)用新型的鋁箔電解腐蝕裝置并不局限于上述的實(shí)施例,凡根據(jù)本實(shí)用新型的精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾,都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
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