[實用新型]鋁箔電解腐蝕裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200920188429.2
• 申請日: 2009-07-27
• 公開（公告）號: CN201473620U
• 公開（公告）日: 2010-05-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鄭德良
• 申請（專利權(quán)）人: 吳江飛樂天和電子材料有限公司
• 主分類號: C25F3/04
• 分類號: C25F3/04;C25F7/00
• 代理公司: 蘇州創(chuàng)元專利商標事務(wù)所有限公司 32103
• 代理人: 孫仿衛(wèi)

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及一種鋁箔電解腐蝕裝置。

背景技術(shù)

隨著電子工業(yè)的飛速發(fā)展，鋁電解電容器的應(yīng)用更加廣泛，性能要求也越來越高。鋁電解電容器用腐蝕化成箔是電子信息產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ)元器件類產(chǎn)品的電子專用材料。

而現(xiàn)有的鋁箔電解腐蝕裝置，其包括盛載有腐蝕工作液的腐蝕槽體、浸漬在腐蝕工作液中的一對相對設(shè)置的石墨電極(接通交流電源)、鋁箔傳輸機構(gòu)，鋁箔傳輸機構(gòu)將需腐蝕的鋁箔片由下至上從一對石墨電極之間穿過，鋁箔片由下至上在一對石墨電極之間穿行，但在由下至上的運動過程中，鋁箔片的橫向上存在細微的晃動，這個晃動必定會導(dǎo)致鋁箔片上的腐蝕電流不穩(wěn)定，分布不均勻。

發(fā)明內(nèi)容

為解決上述的技術(shù)問題，本實用新型提供了一種鋁箔電解腐蝕裝置，其包括盛載有腐蝕工作液的腐蝕槽體、浸漬在所述腐蝕工作液中的一對相對設(shè)置的石墨電極、鋁箔傳輸機構(gòu)，所述鋁箔傳輸機構(gòu)將需腐蝕的鋁箔片由下至上從所述一對石墨電極之間穿過，其中，所述的一對石墨電極之間放置有懸浮于所述腐蝕工作液上的浮動框架，所述的浮動框架中開設(shè)有上下貫通的、可以供所述鋁箔片穿過的槽孔。

采用上述技術(shù)方案的鋁箔電解腐蝕裝置，石墨電極之間放置了懸浮于工作液的浮動框架，鋁箔傳輸機構(gòu)將需腐蝕的鋁箔片由下至上從浮動框架中的上下貫通的槽孔中穿過。浮動框架可以稍微限制鋁箔片的橫向的晃動，更重要的是其可以跟隨鋁箔片的晃動而移動，從而可以使得腐蝕電流均勻地覆蓋到整個鋁箔片的表面。

優(yōu)選的，橫向延伸的槽長比所述鋁箔片的寬度大1mm～10mm。采用這個槽寬，橫向上，鋁箔片相對浮動框架基本沒有相對運動，浮動框架基本上能和鋁箔片的運動一致，這樣能使得腐蝕電流能夠更均勻的覆蓋。

附圖說明

附圖1為本實用新型鋁箔電解腐蝕裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

附圖2為附圖1中A處的放大圖；

1、腐蝕槽體；2、鋁箔傳輸機構(gòu)；3、石墨電極；4、浮動框架；41、槽孔。

具體實施方式

以下結(jié)合附圖和實施例對本實用新型鋁箔電解腐蝕裝置進行具體說明。

實施例1

附圖1為本實用新型鋁箔電解腐蝕裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。一種鋁箔電解腐蝕裝置，其包括盛載有腐蝕工作液的腐蝕槽體1、浸漬在所述腐蝕工作液中的一對相對設(shè)置的石墨電極3、鋁箔傳輸機構(gòu)2，所述鋁箔傳輸機構(gòu)2將需腐蝕的鋁箔片由下至上從所述一對石墨電極3之間穿過，所述的一對石墨電極3之間放置有懸浮于所述腐蝕工作液上的浮動框架4，所述的浮動框架4中開設(shè)有上下貫通的、可以供所述鋁箔片穿過的槽孔41，具體參見圖2。

采用上述技術(shù)方案的鋁箔電解腐蝕裝置，石墨電極3之間放置了懸浮于工作液的浮動框架4，鋁箔傳輸機構(gòu)2將需腐蝕的鋁箔片由下至上從浮動框架4中的上下貫通的槽孔41中穿過。浮動框架4可以稍微限制鋁箔片的左右晃動，更重要的是其可以跟隨鋁箔片的左右晃動而移動，從而可以使得腐蝕電流均勻地覆蓋到整個鋁箔片的表面。

本實施例中鋁箔片橫向的寬度約為500m寬，橫向延伸的槽長比所述鋁箔片的寬度大5mm。

本實用新型的鋁箔電解腐蝕裝置并不局限于上述的實施例，凡根據(jù)本實用新型的精神實質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本實用新型的保護范圍內(nèi)。