[實(shí)用新型]吸水墊無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200920176041.0 | 申請日: | 2009-09-09 |
| 公開(公告)號: | CN201624486U | 公開(公告)日: | 2010-11-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李思賢 | 申請(專利權(quán))人: | 李思賢 |
| 主分類號: | A47G27/02 | 分類號: | A47G27/02 |
| 代理公司: | 北京匯澤知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11228 | 代理人: | 程殿軍 |
| 地址: | 中國臺灣高*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 吸水 | ||
1.一種吸水墊,其特征在于,其主要包含:
框架,為含底層與非水平方向立板的基座,框架內(nèi)放置有上下相迭的吸水區(qū)及擠壓區(qū);
吸水區(qū),為可吸收水分的空間,設(shè)置在所述框架內(nèi)的上層,所述吸水區(qū)內(nèi)放置有吸水材料;
擠壓區(qū),為可擠壓所述吸水材料并可儲存被擠壓出的水分的空間,設(shè)置在所述框架內(nèi)且位在所述吸水區(qū)的下層,所述擠壓區(qū)內(nèi)放置有中空狀的擠水顆粒,所述擠水顆粒下緣設(shè)有凸點(diǎn)。
2.如權(quán)利要求1所述的吸水墊,其特征在于,所述框架上緣四周呈現(xiàn)向內(nèi)延伸而前端再向斜下方延伸的設(shè)計(jì)。
3.如權(quán)利要求1所述的吸水墊,其特征在于,擠壓區(qū)的擠水顆粒與凸點(diǎn)為一體成型的設(shè)計(jì)。
4.如權(quán)利要求2所述的吸水墊,其特征在于,在所述框架內(nèi)的所述擠壓區(qū)上層加設(shè)滲水布。
5.如權(quán)利要求1所述的吸水墊,其特征在于,在所述擠壓區(qū)側(cè)邊配合所述框架在鄰近底部的位置加設(shè)排水閥。
6.如權(quán)利要求5所述的吸水墊,其特征在于,所述框架底部配合所述排水閥的位置設(shè)置有可順勢導(dǎo)引水流方向的推拔斜面。
7.如權(quán)利要求1所述的吸水墊,其特征在于,所述框架底部加設(shè)止滑層。
8.如權(quán)利要求5所述的吸水墊,其特征在于,所述框架底部加設(shè)止滑層。
9.如權(quán)利要求2或權(quán)利要求4或權(quán)利要求6或權(quán)利要求8所述的吸水墊,其特征在于,加設(shè)斜邊在所述框架的邊緣。
10.如權(quán)利要求5所述的吸水墊,其特征在于,加設(shè)斜邊在所述框架的邊緣。
11.如權(quán)利要求7所述的吸水墊,其特征在于,加設(shè)斜邊在所述框架的邊緣。
12.如權(quán)利要求9所述的吸水墊,其特征在于,所述斜邊與所述框架為一體成型的設(shè)計(jì)。
13.如權(quán)利要求10或權(quán)利要求11所述的吸水墊,其特征在于,所述斜邊與所述框架為一體成型的設(shè)計(jì)。
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