[實用新型]呈陣列布置的多掩模光刻機硅片臺系統

無效

• 申請號: 200920173486.3
• 申請日: 2009-09-11
• 公開（公告）號: CN201503535U
• 公開（公告）日: 2010-06-09
• 發明（設計）人: 朱煜;張鳴;汪勁松;田麗;徐登峰;尹文生;段廣洪;胡金春;許巖
• 申請（專利權）人: 清華大學
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京鴻元知識產權代理有限公司 11327
• 代理人: 邸更巖

1.呈陣列布置的多掩模光刻機硅片臺系統，該系統含有基臺(1)，至少一個硅片臺，一組光學透鏡(4)和掩模臺系統，其特征在于：所述的掩模臺系統包括掩模臺基座(5)、掩模運動臺(6)和掩模承載臺(7)，所述的掩模臺基座(5)的長邊為Y方向，短邊為X方向，掩模運動臺(6)在掩模臺基座(5)上沿Y方向作直線運動，掩模承載臺(7)在掩模運動臺(6)上沿X方向作直線運動；在掩模承載臺(7)上設有多個掩模版安裝槽，多個掩模版安裝槽呈陣列布置，每個掩模版安裝槽內放置一塊掩模版。

2.按照權利要求1所述的呈陣列布置的多掩模光刻機硅片臺系統，其特征在于：多個掩模版安裝槽呈矩形陣列布置。

3.按照權利要求1所述的呈陣列布置的多掩模光刻機硅片臺系統，其特征在于：所述的掩模運動臺(6)在掩模臺基座(5)上沿Y方向作直線運動采用氣浮導軌和直線電機做導向驅動，或采用直線導軌、滾珠絲杠和伺服電機做導向驅動；掩模承載臺(7)在掩模運動臺(6)上沿X方向作直線運動采用氣浮導軌和直線電機做導向驅動，或采用直線導軌、滾珠絲杠和伺服電機做導向驅動。