[實用新型]六元濺射裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200920165522.1 | 申請日： | 2009-07-27 |
| 公開（公告）號： | CN201473584U | 公開（公告）日： | 2010-05-19 |
| 發(fā)明（設計）人： | 王佰忠 | 申請（專利權(quán)）人： | 王佰忠 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 深圳市千納專利代理有限公司 44218 | 代理人： | 胡清方 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市龍崗區(qū)大鵬*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 濺射 裝置 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種六元濺射裝置，包括帶門的殼體(1)，在殼體的內(nèi)底面上(1)設有轉(zhuǎn)軸(2)，在所述轉(zhuǎn)軸(2)上設有轉(zhuǎn)盤(3)，在所述殼體(1)內(nèi)設有濺射靶材(4)，其特征在于：所述濺射靶材(4)為6根柱狀靶材，其中，兩根位于轉(zhuǎn)盤(3)的中部，其余四根靶材分布在殼體(1)內(nèi)分布在靠近殼體內(nèi)壁的圓周內(nèi)。
2.如權(quán)利要求1所述的六元濺射裝置，其特征在于：所述殼體為圓柱體，在所述柱體設有旋開門。
3.如權(quán)利要求1或2所述的六元濺射裝置，其特征在于：所述四根靶材是均勻分布在所述殼體內(nèi)壁的圓周內(nèi)的。
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- 專利分類
C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
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C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
