[實用新型]一種數控精密研磨拋光機

無效

• 申請號: 200920163147.7
• 申請日: 2009-07-10
• 公開（公告）號: CN201471286U
• 公開（公告）日: 2010-05-19
• 發明（設計）人: 金萬斌;梁春;周軍
• 申請（專利權）人: 蘭州瑞德實業集團有限公司
• 主分類號: B24B37/04
• 分類號: B24B37/04;B24B7/20;B24B29/00;B24B51/00
• 代理公司: 蘭州振華專利代理有限責任公司 62102
• 代理人: 張真

技術領域：

本實用新型涉及主要用于硅片、硬盤基片、光盤母盤、陶瓷片、石英晶體及其它硬脆材料的研磨加工設備，具體涉及一種數控精密研磨拋光機。

背景技術：

傳統的研磨拋光機常采用普通電機拖動，通過齒輪傳動系統實現上下拋光盤以及內外齒圈的傳動，從而實現對工件的研磨拋光，其上下拋光盤與行星輪只有兩種速度比，限制了雙面拋光機加工運動軌跡的變化，缺乏對速度的精確控制。

申請號為200710068275.9的中國實用新型專利公開了一種精密雙面拋光機的控制系統，其精密雙面拋光機采用四個變頻電機分別拖動上下拋光盤和內外齒圈的原理來實現傳動，而且采用了軸套結構，雖然實現了無級調速，加工過程的軟啟動和軟停止，提高了拋光機的工作效率和加工精度，但由于變頻電機需要有變頻器控制，其對使用條件要求較高，動態響應慢，抗干擾能力差，不適應大扭矩的加工要求；特別是對于高精度的研磨拋光設備來說，其軸套結構本身的制造誤差也會使上下研磨盤產生跳動和振動，從而不能滿足高精度和超高精度的加工要求。

發明內容：

本實用新型的目的在于避免現有技術的不足之處而提供一種數控精密研磨拋光機，其利用伺服電機分別驅動下研磨盤主軸上的齒圈，從而實現對上下研磨盤的拖動，同時對其運動實施閉環控制，從而有效滿足了高精度的研磨拋光機的使用要求。

本實用新型的目的可以通過采用以下技術方案來實現：所述的一種數控精密研磨拋光機，包括有焊接箱體(16)，其特點是還包括有：所述的焊接箱體(16)的一側設有立柱(17)，焊接箱體(16)的另一側設有電器柜(13)，橫梁(18)的兩端分別固定安裝在立柱(17)和電器柜(13)上，焊接箱體(16)內的主支座(14)上設有主軸驅動系統(15)，橫梁(18)上與主軸驅動系統(15)對應的位置設有上盤裝置，操作箱(12)通過操作箱托臂(9)設在電器柜(13)上，上盤裝置的快速作用缸(5)的氣缸桿朝下固定安裝在橫粱(18)中央，快速作用缸(5)的氣缸桿與緩作用缸(4)相連接，緩作用缸(4)的氣缸桿與拉力傳感器組件(6)相連，承載盤(19)通過支桿(20)設在拉力傳感器組件(6)的下方，上盤(21)固定安裝在承載盤(19)上，分液環(22)固定設置在拉力傳感器組件(6)上，分液環(22)上設有分液球閥(8)，分液環(22)通過管架(7)與拉力傳感器組件(6)固定連接；所述的操作箱(12)內設有用于運動控制的上位機平板電腦，平板電腦內設控制程序，通過觸摸屏發送指令進行設備的數據采集、傳輸、處理，以完成該研磨拋光機的高精度控制；所述的電器柜(13)內設有用于運動控制的工業控制器和電機驅動機構。

所述的緩作用缸(4)上固定連接有上防轉板(23)，拉力傳感器組件(6)上固定連接有下防轉板(24)，防轉桿(25)與下防轉板(24)固定連接，防轉桿(25)的上端設置在上防轉板(23)的U型槽內。并可在U型槽內滑動。上盤(21)在快速作用缸(5)及緩作用缸(4)的驅動下實現垂直移動，同時也可轉動和浮動。

所述的上盤(21)的上邊緣固定設置有手柄(10)。所述的承載盤(19)上設有活動鍵(11)，活動鍵(11)通過鍵座固定安裝在承載盤(19)內環邊緣，數量為2個，成對稱分布。

所述的橫梁(18)上緩作用缸(4)的兩側分別設有拉伸彈簧(2)和掛鉤作用氣缸(3)，拉伸彈簧(2)和掛鉤作用氣缸(3)與掛鉤(1)相連。在拉伸彈簧2和掛鉤作用氣缸3的作用下，掛鉤1可實現擺動。所述的拉力傳感器組件(6)內設有關節軸承及推力軸承或深溝球軸承。