[實用新型]一種石墨單晶片的制備裝置

無效

• 申請號: 200920162949.6
• 申請日: 2009-08-09
• 公開（公告）號: CN201485537U
• 公開（公告）日: 2010-05-26
• 發明（設計）人: 杜文娟
• 申請（專利權）人: 杜文娟
• 主分類號: C30B29/02
• 分類號: C30B29/02;C01B31/04;B02C23/18;B02C23/30;B07B7/01
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

所屬技術領域

本實用新型是關于一種石墨單晶片的制備裝置，屬于微/納米材料制備領域。

背景技術

近年來，微/納米材料的用途十分廣泛，其中石墨單晶片的制備具有十分重要的意義。目前已有人用粘膠帶去粘塊狀石墨的方法，從塊狀石墨上粘下石墨單晶片。但工效相當低，難以形成產業化生產。其次，石墨單晶片上會粘有一些粘膠帶的物質，影響了石墨單晶片的純度。

發明內容

為了克服現有技術的不足，本實用新型的目的是提供一種石墨單晶片的高效制備裝置。

本實用新型是這樣實現的：主要由電阻加熱爐、空氣管、風扇和鉗鍋組成；風扇置于電阻加熱爐口，空氣管和鉗鍋置于電阻加熱爐內；空氣管的一端連接于電阻加熱爐外的氣源。在電阻加熱爐中將石墨加熱到1000℃以上，保溫40分鐘；待石墨分子間的范德華力完全消失后，然后打開鉗鍋蓋和電阻加熱爐蓋，同時用熱空氣噴擊石墨；飄揚起來的石墨單晶片和尚未成為單晶片的石墨晶片，隨熱空氣上升，逸出電阻加熱爐口后，被設置在電阻加熱爐口的風扇吹向遠處；由于物質的自重因素，石墨單晶片將被吹得最遠，在石墨晶片下落的最遠處，可以收集到石墨單晶片。

本實用新型的有益效果是：生產石墨單晶片的工效高，產品質地純凈。

附圖說明

下面結合圖和實施例對本實用新型進一步說明。

圖1是本實用新型制備裝置的示意圖。

圖2是本實用新型加熱結束后的狀態。

圖3是本實用新型制備裝置的立體示意圖。

圖4是圖3的局部放大視圖A。

圖5是本實用新型鉗鍋的立體示意圖。

圖6是圖5的局部放大視圖B。

具體實施方式：

本實用新型制備裝置見圖1：主要由電阻加熱爐11、空氣管13、風扇7和鉗鍋10組成；風扇置于電阻加熱爐口16，空氣管13和鉗鍋10置于電阻加熱爐11內。空氣管13由外管131和盤管132構成；外管的一端1311置于電阻加熱爐內，設有外螺紋，另一端1312連接于電阻加熱爐外的氣源；盤管132繞鉗鍋10盤旋若干圈，其一端1321置于鉗鍋10內；另一端1322含有內螺紋，其與外管的一端1311螺紋連接。盤管132與外管131使用螺紋連接的目的在于兩者可以分開(外管131可以轉動)，鉗鍋10可以連同盤管132一起拉出于爐門111外。

(見圖5)鉗鍋10設有鉗鍋蓋101和手柄102，鉗鍋蓋101和手柄102固定連接，鉗鍋蓋101與鉗鍋10通過鉸鏈103連接；轉動手柄102，鍋蓋101繞鉸鏈103擺動，開合于鉗鍋10。

(見圖3、圖4)電阻加熱爐11設有電阻加熱爐蓋113、爐門111和爐門口112；爐門口和爐門各設有一個半圓孔1111和1121，關上爐門，所述的兩個半圓孔合在一起，形成一圓孔114。該圓孔114正好容納手柄102。這樣，操作人可以在電阻加熱爐外操作手柄，打開或合上鉗鍋蓋101。

先按圖1所示，將裝有石墨5的鉗鍋10放入電阻加熱爐11中，然后升溫到1000℃以上，保溫40分鐘。石墨晶體中層與層之間屬于分子晶體，是以范德華力結合起來的。當溫度達到1000C以上，石墨晶體中層與層之間的范德華力就會消失。此后，打開鉗鍋蓋101和電阻加熱爐蓋113(見圖2)，與此同時，對準石墨，噴入空氣14(噴入的空氣由于經過盤繞的空氣管13，得到加溫，故噴在石墨上不致于使石墨快速降溫至1000℃以下。另一種方法是：噴入的空氣本身已經在電阻爐外經過其它方法加熱過的，這樣效果更好一些)。已失去范德華力的石墨，受加熱的空氣14沖擊后，形成的一些單晶片和一些尚未成為單晶片的石墨粉狀物。這些石墨粉狀物隨著熱空氣的上升，經過電阻加熱爐的導流道6，逸出電阻加熱爐口16。這時被位于電阻加熱爐口的風扇7吹向剪頭所示方向。由于物質的自重因素，石墨單晶片將被吹得最遠，從而在石墨晶片下落的最遠處，可以收集到石墨單晶片。