[實用新型]3C產品用的鍍膜結構無效
| 申請號: | 200920152694.5 | 申請日: | 2009-05-20 |
| 公開(公告)號: | CN201432443Y | 公開(公告)日: | 2010-03-31 |
| 發明(設計)人: | 蔡福星 | 申請(專利權)人: | 億達科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B32B15/04 | 分類號: | B32B15/04;B32B27/06;B32B33/00 |
| 代理公司: | 上海浦一知識產權代理有限公司 | 代理人: | 丁紀鐵 |
| 地址: | 中國*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 產品 鍍膜 結構 | ||
1.一種3C產品用的鍍膜結構,其特征在于,包含:
一個基層;
一個增反暨接著層,其結合于該基層上;
一個鍺或鍺合金層,其厚度為該鍺或鍺合金層結合于該增反暨接著層上,該增反暨接著層用于接著該鍺或鍺合金層與該基層;
一個配色暨接著層,其結合于該鍺或鍺合金層上;以及
一個保護層,其結合于該配色暨接著層上,該配色暨接著層用于接著該保護層與該鍺或鍺合金層。
2.根據權利要求1所述的3C產品用的鍍膜結構,其特征在于,該基層為丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物、聚碳酸酯與丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯或聚碳酸酯與聚甲基丙烯酸甲酯共聚物材質一體成型。
3.根據權利要求1所述的3C產品用的鍍膜結構,其特征在于,該增反暨接著層為紫外硬化接著材質一體成型。
4.根據權利要求1所述的3C產品用的鍍膜結構,其特征在于,該鍺或鍺合金層電阻大于等于1000MΩ。
5.根據權利要求1所述的3C產品用的鍍膜結構,其特征在于,該鍺或鍺合金層與該增反暨接著層透過物理氣相沉積中的真空電鍍結合。
6.根據權利要求1所述的3C產品用的鍍膜結構,其特征在于,該真空電鍍分為真空濺鍍鍍膜或真空離子鍍膜或真空電阻加熱蒸鍍鍍膜。
7.根據權利要求1所述的3C產品用的鍍膜結構,其特征在于,該配色暨接著層為聚氨基甲酸酯樹脂混合色料一體成型。
8.根據權利要求1所述的3C產品用的鍍膜結構,其特征在于,該保護層為為紫外硬化接著材質一體成型。
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