[實用新型]一種真空鍍膜機滾筒靜電裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200920151864.8 | 申請日： | 2009-04-27 |
| 公開（公告）號： | CN201485500U | 公開（公告）日： | 2010-05-26 |
| 發(fā)明（設計）人： | 肖海林;章肖飛 | 申請（專利權）人： | 南通海林電子有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/22 | 分類號： | C23C14/22 |
| 代理公司： | 北京一格知識產(chǎn)權代理事務所 11316 | 代理人： | 鐘廷良;李慧芳 |
| 地址： | 226500*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 真空鍍膜 滾筒 靜電 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種真空鍍膜機滾筒靜電裝置，包括主滾筒、副滾筒和機架，所述主滾筒和副滾筒平行固定在機架上，其特征在于：在所述主滾筒和副滾筒之間連接有電源。
2.根據(jù)權利要求1所述的真空鍍膜機滾筒靜電裝置，其特征在于：所述電源包括整流器、交流電源，所述交流電源通過整流器與主、副滾筒連接，且所述整流器上裝有調壓器。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
