[實(shí)用新型]消光性聚合物薄膜結(jié)構(gòu)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200920150966.8
• 申請(qǐng)日: 2009-05-25
• 公開（公告）號(hào): CN201538072U
• 公開（公告）日: 2010-08-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林志銘;向首睿;李建輝;周文賢
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 昆山雅森電子材料科技有限公司
• 主分類號(hào): B32B27/06
• 分類號(hào): B32B27/06;B32B33/00;B32B7/12;H05K1/02
• 代理公司: 北京戈程知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11314
• 代理人: 程偉;王錦陽

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種聚合物薄膜結(jié)構(gòu)，特別是一種可作為電路板的保護(hù)膜且具有消光層的聚合物薄膜結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)

聚酰亞胺薄膜(Polyimide?Film)是在高性能薄膜材料中具有較高的熱穩(wěn)定性、電氣性及柔軟性的商業(yè)化產(chǎn)品，因此成為該領(lǐng)域中不可替代的最主要的基本材料。聚酰亞胺薄膜的高可靠性更是其不可替代的原因之一。目前市場(chǎng)上大部分的聚酰亞胺薄膜為亮光性聚酰亞胺薄膜，例如，為了使聚酰亞胺保護(hù)膜具有遮蔽電路布局的功能，在如圖1A所示的聚酰亞胺薄膜101之上形成黑色粘著層102。然而，這種結(jié)構(gòu)雖然達(dá)到了遮蔽的目的，但是聚酰亞胺薄膜表面的光澤度仍然過亮，無法滿足特定光學(xué)應(yīng)用的需求。

為了應(yīng)市場(chǎng)對(duì)消光性聚酰亞胺保護(hù)膜的需求，另一種現(xiàn)有結(jié)構(gòu)如圖1B所示，該結(jié)構(gòu)使用添加碳粉的黑色聚酰亞胺薄膜101a，并在該黑色聚酰亞胺薄膜101a上形成粘著層102a。以這種方式制造的聚酰亞胺保護(hù)膜雖然具有較好的消光效果，但是黑色聚酰亞胺薄膜101a的成本過高，實(shí)際量產(chǎn)時(shí)不符合需求，而且含有添加物的聚酰亞胺保護(hù)膜也存在抗拉強(qiáng)度、尺寸安定性等性質(zhì)變差的憂慮。

因此，如何在不影響聚合物薄膜的性能的情況下制造低成本且消光性良好的消光性聚合物薄膜是目前仍待解決的課題。

實(shí)用新型內(nèi)容

鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)，本發(fā)明的目的是提供一種消光性聚合物薄膜結(jié)構(gòu)，以在不影響聚合物薄膜的性能的情況下，同時(shí)具有制造低成本且消光性良好的優(yōu)點(diǎn)和特性。

為達(dá)到上述目的及其它目的，本實(shí)用新型提供一種消光性聚合物薄膜結(jié)構(gòu)，其包括聚合物薄膜以及在該聚合物薄膜上形成的厚度為1至3微米的消光層，所述消光層包括膠粘劑及分散于該膠粘劑中的選自二氧化硅、二氧化鈦或其混合物的消光粉。

在一個(gè)具體實(shí)施方案中，所述消光層的外側(cè)表面具有粗糙化紋路，且優(yōu)選地，該紋路為鋸齒狀或波浪狀。

在另一具體實(shí)施方案中，本實(shí)用新型的消光性聚合物薄膜結(jié)構(gòu)進(jìn)一步包括在該聚合物薄膜上形成的粘著層，從而使得該聚合物薄膜夾在消光層及粘著層之間，且所述粘著層的厚度介于10至35微米。

在具有粘著層的具體實(shí)施方案中，本實(shí)用新型的消光性聚合物薄膜結(jié)構(gòu)進(jìn)一步包括在該粘著層上形成的離形膜，從而使得該粘著層夾在聚合物薄膜及離形膜之間。

本實(shí)用新型的消光性聚合物薄膜結(jié)構(gòu)可以在保持聚合物薄膜的高性能的情況下，通過涂布一定厚度的消光性膠水，并在固化該消光性膠水之后使該聚合物薄膜具有光散射性質(zhì)，進(jìn)而達(dá)到良好的消光效果。

附圖說明

圖1A顯示現(xiàn)有聚酰亞胺保護(hù)膜結(jié)構(gòu)。

圖1B顯示現(xiàn)有消光性聚酰亞胺保護(hù)膜結(jié)構(gòu)。

圖2A至2C顯示本實(shí)用新型的消光性聚合物薄膜結(jié)構(gòu)。

圖3為本實(shí)用新型的消光層涂布設(shè)備示意圖。

主要元件符號(hào)說明

101、101a????????聚酰亞胺薄膜

102、102a、202???粘著層

200、200’、200”消光性聚合物薄膜結(jié)構(gòu)

201、314?????????聚合物薄膜

203??????????????消光層

204??????????????離形膜

205??????????????紋路

300??????????????涂布設(shè)備

311??????????????容槽

312??????????????含浸滾輪

313????刮涂裝置

具體實(shí)施方式

以下通過特定的具體實(shí)施方案說明本實(shí)用新型的實(shí)施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可由本說明書所揭示的內(nèi)容輕易地了解本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)及功效。本實(shí)用新型也可以其它不同的方式實(shí)施，即，在不背離本實(shí)用新型所揭示的范圍內(nèi)進(jìn)行不同的修改與改變。

如圖2A所示，其顯示本實(shí)用新型的消光性聚合物薄膜結(jié)構(gòu)200，該結(jié)構(gòu)包括聚合物薄膜201以及厚度為1至3微米的消光層203，所述消光層203在該聚合物薄膜201上形成，且該消光層包括膠粘劑及分散于該膠粘劑中的選自二氧化硅、二氧化鈦或其混合物的消光粉。在一個(gè)例子中優(yōu)選二氧化鈦消光粉。

在本實(shí)用新型的消光性聚合物薄膜結(jié)構(gòu)中，并不特別限定所使用的聚合物薄膜201材料，通常，該聚合物薄膜201選自聚酰亞胺、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯或聚對(duì)萘二甲酸乙二酯，且該聚合物薄膜201的厚度介于12至25微米。