[實用新型]一種單晶硅爐的溫場穩定裝置在審
| 申請號： | 200920147956.9 | 申請日： | 2009-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN201501941U | 公開（公告）日： | 2010-06-09 |
| 發明（設計）人： | 馮煥培;朱仁德;劉旭峰 | 申請（專利權）人： | 北京京運通硅材料設備有限公司 |
| 主分類號： | C30B15/14 | 分類號： | C30B15/14;C30B11/00;C30B29/06 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 單晶硅 穩定 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種單晶硅爐的溫場穩定裝置，主要由石墨堝、石英坩堝、石墨熱場、加熱器、底部輻射裝圓盤加熱器和保溫層所組成，其特征在于在傳統的石墨熱場即加熱器底部，石英堝的垂直下方增加了一個散射形圓盤石墨發熱裝置，通過熱輻射的原理向石墨熱場的軸向輻射熱量，減小溫場的軸向溫差。
2.按權利要求1所述的一種單晶硅爐的溫場穩定裝置，其特征在于：所述的圓盤加熱器的直徑與原有配套加熱器的直徑的長度比為1∶0.7~0.89。
3.按權利要求1所述的一種單晶硅爐的溫場穩定裝置，其特征在于：所述的圓盤的加熱器的溫區長度與圓盤的外內徑差的長度比為：1∶0.8~0.87。
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