[實用新型]用于大氣顆粒單顆粒分析的微束X射線熒光設備無效
| 申請號: | 200920145676.4 | 申請日: | 2009-03-20 |
| 公開(公告)號: | CN201477030U | 公開(公告)日: | 2010-05-19 |
| 發明(設計)人: | 孫天希;劉志國;滕玥鵬;楊科 | 申請(專利權)人: | 北京師范大學 |
| 主分類號: | G01N15/14 | 分類號: | G01N15/14 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100875 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 大氣 顆粒 分析 射線 熒光 設備 | ||
1.一種用于大氣顆粒單顆粒分析的微束X射線熒光設備,包括X射線光源、針孔光闌、樣品、顯微鏡、探測器,其特征在于:該譜儀還包括在X射線光源和針孔光闌之間加有一“坪區”毛細管X射線會聚透鏡。
2.根據權利要求1所述的用于大氣顆粒單顆粒分析的微束X射線熒光設備,其特征在于:“坪區”毛細管X射線會聚透鏡的入口端直徑Din和出口端直徑Dout與其最大截面的直徑Dmax相比,前者較小;“坪區”毛細管X射線會聚透鏡入口焦距f1和出口焦距f2可以相等也可以不等;透鏡的長度l根據實驗條件而定。
3.根據權利要求1所述的用于大氣顆粒單顆粒分析的微束X射線熒光設備,其特征在于:構成“坪區”毛細管X射線會聚透鏡的單毛細管的直徑是不同的,中間單毛細管的直徑大,外層單毛細管的直徑小。
4.根據權利要求1所述的用于大氣顆粒單顆粒分析的微束X射線熒光設備,其特征在于:“坪區”大小在1-60微米范圍內,適用于對0.2-40keV范圍內X射線進行會聚,“坪區”處X射線強度分布均勻度在2%-6%范圍內,“坪區”處功率密度增益的數量級在102-103范圍內。
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