[實用新型]上料裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200920130192.2 | 申請日: | 2009-02-13 |
| 公開(公告)號: | CN201376148Y | 公開(公告)日: | 2010-01-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 唐文軒;羅琳 | 申請(專利權(quán))人: | 唐文軒;羅琳 |
| 主分類號: | B23K20/26 | 分類號: | B23K20/26 |
| 代理公司: | 深圳市順天達專利商標代理有限公司 | 代理人: | 蔡曉紅;林儉良 |
| 地址: | 518000廣東省深圳*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 裝置 | ||
1、一種上料裝置,其特征在于,包括基板,安裝在所述基板上的、支撐支架的上料盒組件,與所述上料盒組件相對設(shè)置、并從所述上料盒組件逐片吸出所述支架的吸片機構(gòu),位于所述上料盒組件和吸片機構(gòu)之間的片槽,以及與所述吸片機構(gòu)配合控制所述支架落入所述片槽的下料機構(gòu)。
2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的上料裝置,其特征在于,所述支架上設(shè)有開孔;所述上料盒組件包括平行設(shè)置支撐條;所述支撐條穿出所述支架的開孔,使所述支架掛設(shè)在所述支撐條上。
3、根據(jù)權(quán)利要求1所述的上料裝置,其特征在于,所述吸片機構(gòu)包括輸出往復(fù)運動的驅(qū)動機構(gòu)、以及由所述驅(qū)動機構(gòu)帶動往復(fù)運動并吸合所述支架的吸頭。
4、根據(jù)權(quán)利要求3所述的上料裝置,其特征在于,所述驅(qū)動機構(gòu)包括驅(qū)動電機、由所述驅(qū)動電機帶動轉(zhuǎn)動的螺桿、以及在所述螺桿上運動的滑塊組件;所述吸頭安裝在所述滑塊組件的前端;
所述滑塊組件還設(shè)有限位導(dǎo)向結(jié)構(gòu)。
5、根據(jù)權(quán)利要求3所述的上料裝置,其特征在于,所述吸頭為磁性吸頭;或者,所述吸頭為氣嘴吸頭;或者,所述吸頭為電磁吸頭。
6、根據(jù)權(quán)利要求3所述的上料裝置,其特征在于,所述吸頭的前端還設(shè)有到位感應(yīng)器。
7、根據(jù)權(quán)利要求1所述的上料裝置,其特征在于,所述片槽包括分開形成容納所述支架的空間的前片和后片、以及在所述前片和后片下部設(shè)置的底板;所述前片和后片頂端分別向外張開。
8、根據(jù)權(quán)利要求1所述的上料裝置,其特征在于,所述上料裝置還包括位移機構(gòu);所述位移機構(gòu)包括位移電機、由所述位移電機驅(qū)動轉(zhuǎn)動的位移螺桿、由所述位移螺桿帶動前后移動的滑塊、以及在所述滑塊上安裝推動所述支架的撥塊機構(gòu);
所述滑塊還設(shè)有限位導(dǎo)向結(jié)構(gòu)。
9、根據(jù)權(quán)利要求8所述的上料裝置,其特征在于,所述撥塊機構(gòu)推動支架在處于傾斜的狀態(tài)下移動。
10、根據(jù)權(quán)利要求1所述的上料裝置,其特征在于,所述下料機構(gòu)包括安裝在所述片槽后側(cè)的擋片。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于唐文軒;羅琳,未經(jīng)唐文軒;羅琳許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200920130192.2/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種水下焊接試驗艙
- 下一篇:集卷成型裝置的雙導(dǎo)輪導(dǎo)管





