[實用新型]基于近場光學行波吸收的痕量物質(zhì)分析裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200920124432.8
• 申請日: 2009-07-10
• 公開（公告）號: CN201429564Y
• 公開（公告）日: 2010-03-24
• 發(fā)明（設計）人: 高秀敏
• 申請（專利權）人: 杭州電子科技大學
• 主分類號: G01N21/17
• 分類號: G01N21/17
• 代理公司: 杭州求是專利事務所有限公司
• 代理人: 杜 軍

1、基于近場光學行波吸收的痕量物質(zhì)分析裝置，包括光源、光束準直整形器、近場光學行波腔、第一反射鏡、第二反射鏡、光電傳感器、移動部件，其特征在于：光源的出射光束光路上依次設置有光束準直整形器和近場光學行波腔；所述的近場光學行波腔為等腰三角形棱鏡，兩個腰面為高反射率反射面，底面為內(nèi)全反射面，測試區(qū)為底面內(nèi)全反射的光學近場區(qū)域；光束準直整形器的出射光束由第一腰面入射近場光學行波腔，入射方向與等腰三角形棱鏡底面平行，在第一腰面、第二腰面和底面構成的近場光學行波高精細度腔內(nèi)形成光學行波，由第二腰面出射；近場光學行波腔的第二腰面出射光束光路上依次平行設置有的第一反射鏡和第二反射鏡，第一反射鏡和第二反射鏡均與光束傳播方向垂直，第一反射鏡的反射面和第二反射鏡的反射面相對，第一反射鏡和第二反射鏡構成法珀腔；光電傳感器設置在第二反射鏡的光束出射一側的光路上；移動部件與第二反射鏡連接，帶動第二反射鏡沿光束方向移動，調(diào)節(jié)第一反射鏡和第二反射鏡的間距。

2、如權利要求1所述的基于近場光學行波吸收的痕量物質(zhì)分析裝置，其特征在于：所述的光源為半導體激光器、固體激光器、氣體激光器、液體激光器的一種。

3、如權利要求1所述的基于近場光學行波吸收的痕量物質(zhì)分析裝置，其特征在于：所述的準直整形器是伽利略型準直整形器、開普勒型準直整形器中的一種。

4、如權利要求1所述的基于近場光學行波吸收的痕量物質(zhì)分析裝置，其特征在于：所述的光電傳感器為光電二極管、雪崩管、光電倍增管中的一種。

5、如權利要求1所述的基于近場光學行波吸收的痕量物質(zhì)分析裝置，其特征在于：所述的移動部件為步進電機、壓電陶瓷位移器、納米位移元件中的一種。