[實(shí)用新型]硅片噴淋清洗槽有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200920109664.6 | 申請日: | 2009-06-30 |
| 公開(公告)號: | CN201440405U | 公開(公告)日: | 2010-04-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 于皓潔;杜飛龍 | 申請(專利權(quán))人: | 北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/00 | 分類號: | H01L21/00;B08B3/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100016 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 硅片 噴淋 清洗 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于一種清洗裝置,具體是一種用于硅片清洗的裝置,特別是將整籃硅片同時進(jìn)行全方位清洗的清洗裝置。
背景技術(shù)
常規(guī)的硅片清洗工藝是采用靜態(tài)噴淋清洗,所用噴淋管為固定的,清洗存在覆蓋不到的區(qū)域,而且清洗的均勻性和清潔度不夠理想。因此,需要對現(xiàn)有工藝和設(shè)備進(jìn)行改進(jìn)。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是為了解決上述技術(shù)問題,提出一種硅片噴淋清洗槽,該清洗槽能實(shí)現(xiàn)全方位均勻清洗,操作簡便,較好地解決了上述問題。
本實(shí)用新型的目的是通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的:硅片噴淋清洗槽,設(shè)有槽體,其特征在于:槽體內(nèi)可放置硅片清洗花籃,在槽體的一端設(shè)有平移氣缸,該氣缸上通過固定塊固定裝有水平移動的平移噴淋管,該噴淋管上設(shè)有噴嘴;在槽體一端的下部設(shè)有升降氣缸,該氣缸通過安裝板固定裝有在槽體內(nèi)兩側(cè)升降移動的兩個升降噴淋管,該噴淋管上設(shè)有噴嘴。
工作過程:工件放入槽內(nèi)后,頂部噴淋管在平移氣缸驅(qū)動下做往復(fù)平移支運(yùn)動,側(cè)面噴淋管在升降氣缸的驅(qū)動下做升降運(yùn)動,使得水可以均勻噴淋覆蓋整個工件區(qū)域。
本實(shí)用新型具有結(jié)構(gòu)完善,操作簡便,全方位均勻清洗,特別是不易損傷硅片的優(yōu)點(diǎn)。
附圖說明
圖1是本實(shí)用新型的立體結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是圖1中A-A剖視圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明:實(shí)施例:參見附圖,硅片噴淋清洗槽,設(shè)有槽體,槽體內(nèi)可放置硅片清洗花籃9,在槽體1的一端設(shè)有平移氣缸6,該氣缸上通過固定塊7固定裝有水平移動的平移噴淋管2,該噴淋管上設(shè)有噴嘴3;在槽體一端的下部設(shè)有升降氣缸5,該氣缸通過安裝板8固定裝有在槽體內(nèi)兩側(cè)升降移動的兩個升降噴淋管4,該噴淋管上設(shè)有噴嘴3.1。
本實(shí)施例經(jīng)試用效果非常好。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





