[實用新型]拋光用研磨機

無效

• 申請號: 200920090598.2
• 申請日: 2009-06-02
• 公開（公告）號: CN201405261Y
• 公開（公告）日: 2010-02-17
• 發明（設計）人: 申紅衛;張偉;董振峰;李鵬
• 申請（專利權）人: 濟源石晶光電頻率技術有限公司
• 主分類號: B24B37/04
• 分類號: B24B37/04;B24B57/02
• 代理公司: 鄭州紅元帥專利代理事務所（普通合伙）
• 代理人: 徐皂蘭

技術領域

本實用新型涉及一種晶片研磨裝置，具體地說，涉及了一種壓電石英晶體頻率片拋光用研磨機。

背景技術

拋光也是研磨的一種；對那些表面光潔度要求較高的高精度晶體或高頻溫補晶體，拋光是必不可少的工序；拋光不是用綠碳化硅或白鋼玉做磨料，而是用更細的拋光粉二氧化鈰(CeO2)，它的顆料為六面體，平均直徑2μm，莫氏硬度為7-8級；球面的拋光在四軸或六軸研磨機上逐面進行；平片的拋光有兩種方法，早期大都采用粘板法，逐面進行拋光，現在一般采用雙面自由式拋光法；拋光采用小型四動作研磨機，機臺工作時，它的內外齒圈、上下研盤均按一定的傳動比作方向相反的轉動，內外齒圈的轉動帶動研盤上的游星輪作自轉與公轉的游星運動；游星輪的轉動又可帶動晶片有規律的在下研盤內的邊緣間移動，從而使各晶片以及同一晶片的各點相對于研盤的研磨線速度之和大致相等，各點總研磨距離大致相等，從而保證晶片的一致性和平行度；實踐證明，雙面自由式拋光的方法效率高，適合于規模生產。

但拋光所用的研盤的盤面與普通的研磨有較大的區別，普通研磨所用的盤面材質是鑄鐵，且盤面上開方形或環形的溝槽進行導砂，而拋光的盤面上不許開溝槽，而且在鑄鐵的盤面上附著有一層膜，膜的材質有瀝青、呢布、樹脂等，現在國外的拋光大都使用聚胺脂拋光膜；使用時，將鑄鐵研盤的盤面通過修盤機對上下盤進行修平，修整好后清洗干凈，將聚胺脂拋光膜粘在上下研盤表面，粘好后上下研盤進行對壓24小時以上，然后進行修整盤面，盤面修好后即可以拋光使用。

普通研磨時，砂液通過上研盤的流砂孔進入上下研盤間，通過盤面上的溝槽均勻分布到盤面上，對被研磨的晶片進行磨削；而拋光作業時，由于盤面的聚胺脂拋光膜是一種軟的材質，同時盤面沒有導砂的溝槽，還按照原有的流砂方式在盤面上開流砂孔時，會帶來以下問題，一是流砂不均勻，二是盤面上開孔的位置會導致盤面的不平整，影響拋光的精度。

為了克服以上問題，人們一直在尋找一種技術解決方案。

發明內容

本實用新型的目的在于克服現有技術的不足，從而提供一種設計科學、結構簡單、導砂均勻、研磨盤面平整、拋光精度高、安全可靠的拋光用研磨機。

本實用新型解決其技術問題所采用的技術方案是：一種拋光用研磨機，包括上掛架、安裝在上掛架上的導砂槽、安裝在上掛架上的上研盤襯板、安裝在上研盤襯板下部的上研盤和設置在上研盤下盤面的拋光膜，其中，導砂槽內設置有導砂孔，所述上研盤側面設置有導砂口，所述上研盤襯板上設置有連通所述導砂口的連接口，在所述連接口和所述導砂孔之間設置有導砂管。

本實用新型相對于現有技術具有實質性特點和進步，具體的說，該拋光用研磨機通過對拋光時砂液導入方式進行技術改造，很好的解決了流砂不均勻、盤面不平整、拋光精度差的問題，大大提高了拋光晶體產品的合格率和質量；該拋光用研磨機具有設計科學、結構簡單、導砂均勻、研磨盤面平整、拋光精度高、安全可靠的優點。

附圖說明

圖1是本實用新型的結構示意圖。

具體實施方式

下面結合附圖給出本實用新型的具體實施方式：

如圖1所示，一種拋光用研磨機包括上掛架1、安裝在上掛架1上的導砂槽2、安裝在上掛架1上的上研盤襯板5、安裝在上研盤襯板5下部的上研盤6和設置在上研盤6下盤面的拋光膜7，其中，導砂槽2內設置有導砂孔3；

所述上研盤6側面設置有導砂口8，所述上研盤襯板5上設置有連通所述導砂口8的連接口，在所述連接口和導砂孔3之間設置有導砂管4。

工作時，流砂從導砂槽2流出，經過導砂管4、導砂口8，流到下研盤9內的游星輪10上，通過游星輪10在盤面上的自轉將拋光的砂液帶入上下研盤間，從而達到拋光研磨的目的。

最后應當說明的是：以上實施例僅用以說明本實用新型的技術方案而非對其限制；盡管參照較佳實施例對本實用新型進行了詳細的說明，所屬領域的普通技術人員應當理解：依然可以對本實用新型的具體實施方式進行修改或者對部分技術特征進行等同替換；而不脫離本實用新型技術方案的精神，其均應涵蓋在本實用新型請求保護的技術方案范圍當中。