[實用新型]用納米級霧狀化學劑處理基片的系統

無效

• 申請號: 200920076311.0
• 申請日: 2009-06-16
• 公開（公告）號: CN201417758Y
• 公開（公告）日: 2010-03-03
• 發明（設計）人: 倪黨生
• 申請（專利權）人: 倪黨生
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00;B08B3/08
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司
• 代理人: 鄧 琪

1.一種用納米級霧狀化學劑處理基片的系統，包括基片清洗容器，其具有頂蓋和容器本體，該容器本體內部中間設有基片承載部分；該容器本體的側面上部設有一組可使霧狀化學劑、去離子水和氮氣流入容器的閥門；容器本體底部設有一組通風和排水閥門；其特征在于，所述容器基片承載部分包括可旋轉的基片承載盤和布置在所述基片承載盤上的周邊部分、用于壓緊所述單基片的離心壓緊塊。

2.根據權利要求1所述的用納米級霧狀化學劑處理基片的系統，其特征在于，所述基片清洗容器為豎向圓柱形。

3.根據權利要求1所述的用納米級霧狀化學劑處理基片的系統，其特征在于，所述離心壓緊塊為倒L形。

4.根據權利要求1所述的用納米級霧狀化學劑處理基片的系統，其特征在于，所述基片清洗容器還包括一組去離子水兆聲刀裝置，獨立可擺動的安裝于容器頂蓋內部。

5.根據權利要求1所述的用納米級霧狀化學劑處理基片的系統，其特征在于，所述基片清洗容器還包括一組無接觸PVA毛刷臂，安裝于容器頂蓋內。

6.根據權利要求1所述的用納米級霧狀化學劑處理基片的系統，其特征在于，所述容器頂蓋與容器本體之間具有O型密封圈。

7.根據權利要求1所述的用納米級霧狀化學劑處理基片的系統，其特征在于，所述基片清洗容器還包括氣缸鎖緊裝置，用于鎖緊容器頂蓋及容器本體。