[實用新型]濕法氧化膜刻蝕設備水槽裝置無效
| 申請號： | 200920074633.1 | 申請日： | 2009-10-22 |
| 公開（公告）號： | CN201538818U | 公開（公告）日： | 2010-08-04 |
| 發明（設計）人： | 董銳;蔡亮 | 申請（專利權）人： | 上海華虹NEC電子有限公司 |
| 主分類號： | C23F1/08 | 分類號： | C23F1/08;C30B33/10 |
| 代理公司： | 上海浦一知識產權代理有限公司 31211 | 代理人： | 張驥 |
| 地址： | 201206 上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 濕法 氧化 刻蝕 設備 水槽 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種濕法氧化膜刻蝕設備水槽裝置，包括噴淋管，噴淋管上均布有噴淋孔，其特征在于：所述噴淋孔的噴淋角度為向上45°。
2.根據權利要求1所述的濕法氧化膜刻蝕設備水槽裝置，其特征在于：所述噴淋孔為一排。
3.根據權利要求1或2所述的濕法氧化膜刻蝕設備水槽裝置，其特征在于：所述噴淋孔的孔徑為1.8mm。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海華虹NEC電子有限公司，未經上海華虹NEC電子有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200920074633.1/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種陰極組裝生產線炭塊工作平臺
- 下一篇：一種真空蠕變校形爐
