[實用新型]光學透明狹縫及帶有光學透明狹縫的分光儀

有效

• 申請號: 200920074459.0
• 申請日: 2009-09-03
• 公開（公告）號: CN201488810U
• 公開（公告）日: 2010-05-26
• 發明（設計）人: 江道國
• 申請（專利權）人: 必達泰克光電設備(上海)有限公司
• 主分類號: G01J3/04
• 分類號: G01J3/04;G01J3/00
• 代理公司: 上海浦一知識產權代理有限公司 31211
• 代理人: 張驥

技術領域

本實用新型涉及一種光學檢測儀器，具體涉及一種光學透明狹縫。本發明還涉及一種帶有光學透明狹縫的分光儀。

背景技術

近年來線陣列、面陣列的探測器廣泛應用到光譜儀及分光光度計上，使光譜儀、分光光度計在各個領域內日益發揮著重要作用。這種帶有陣列探測器的光譜儀或分光光度計需要使用到狹縫(slit)，狹縫是決定儀器分辨率指標的重要零件。

目前廣泛使用的狹縫包括一厚度為80～100微米的基片，基片上開具有一定規格、一定形狀的細縫，該細縫的尺寸最終決定了儀器的分辨率。這種狹縫的制作方法是通過蝕刻或激光切等方法在平整的金屬基片上產生所需要的細縫，不僅加工成本高，而且細縫的邊緣質量較差。

此外，這種狹縫還存在以下缺點：

1、由于該狹縫的細縫寬度非常窄，一旦細縫內落入極小的雜質，清理這些雜質將非常困難，這些雜質會影響到儀器的響應度且對分辨率產生影響。

2、該狹縫的厚度很薄(80～100微米)，而狹縫的基片一般采用平整金屬材料制成，儀器安裝過程中很容易破壞狹縫的表面平面度，進而影響狹縫的質量。由于狹縫的質量不高，會惡化在陣列探測器上的成像質量，從而影響到儀器的分辨率，為消除這些不利影響一般還要通過其它的方法進行校正。

3、該狹縫的細縫使光譜儀的外部環境與內部環境是相通的，在某些使用環境中外部環境會對內部的光學器件、陣列探測器以及電路造成損壞，限制了光譜儀的應用范圍。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是提供一種光學透明狹縫，它可以改善成像質量，降低加工成本。

為解決上述技術問題，本實用新型光學透明狹縫的技術解決方案為：

包括光學透明基片，光學透明基片包括透光區域和非透光區域，非透光區域的一面或兩面分別鍍有金屬膜；所述透光區域的寬度不大于0.5mm。

所述金屬膜的膜層厚度為2～5微米。

所述非透光區域的邊緣設有定位缺口。

本實用新型還提供一種帶有光學透明狹縫的分光儀，其技術解決方案為：

包括陣列探測器、光學透明狹縫、分光光學及其機械模塊，光線從光學透明狹縫進入分光光學及其機械模塊的光學空間，在陣列探測器上成像。

所述分光光學及其機械模塊與光學透明狹縫形成密閉空間。

所述分光光學及其機械模塊的光學空間內充填有保護性氣體。

本實用新型可以達到的技術效果是：

本實用新型光學透明狹縫的透光區域為封閉式，不存在任何細縫，維護更加方便，封閉性更好，應用領域大，使用壽命長。

本實用新型光學透明狹縫的透光區域邊緣質量高，在陣列探測器上的成像質量好，能夠提高分光儀的像質。

本實用新型光學透明狹縫的透光區域的制造方法簡單，制造成本低。

附圖說明

下面結合附圖和具體實施方式對本實用新型作進一步詳細的說明：

圖1是本實用新型光學透明狹縫的示意圖；

圖2是本實用新型的剖面圖；

圖3是本實用新型帶有光學透明狹縫的分光儀的示意圖。

圖中附圖標記說明：

1為非透光區域，?????2為透光區域，

3為定位缺口，???????11為光學透明基片，

12為金屬膜，????????13為感光膠，

10為光學透明狹縫，??6為殼體，

7為陣列探測器，?????8為光學空間。

具體實施方式

如圖1、圖2所示，本實用新型光學透明狹縫，包括光學透明基片11，光學透明基片11包括透光區域2、非透光區域1，非透光區域1的兩面分別鍍有一層完全不透光的金屬膜12。

透光區域2的寬度不大于0.5mm。透光區域2的寬度決定了光譜儀的分辨率。

光學透明基片11可以是玻璃、石英、硅片等在UV到IR區域內透光的光學透明材料。

金屬膜12的膜層厚度為2～5微米。

非透光區域1的邊緣設有定位缺口3，定位缺口3用于定位光學透明狹縫的方向，以利于調試的方便。

也可在非細縫區域1的一面鍍有一層完全不透光的金屬膜12。鍍有金屬膜12的一面為光學透明狹縫的工作面。

本實用新型透光區域2的制作方法是：在金屬膜12上涂上一層感光膠13，通過掩膜版對涂有感光膠13的基片進行曝光(掩膜版的形狀與細縫區域2的形狀相同)，再將整個基片放入腐蝕液中將透光區域2的金屬膜12去掉而形成的；最后將感光膠13去除。