[實(shí)用新型]夾具及相應(yīng)的掩模板組件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200920070375.X | 申請(qǐng)日: | 2009-04-14 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN201464800U | 公開(kāi)(公告)日: | 2010-05-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 盧子軒 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中芯國(guó)際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G03F1/00 | 分類(lèi)號(hào): | G03F1/00 |
| 代理公司: | 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時(shí)云 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 夾具 相應(yīng) 模板 組件 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及集成電路制造領(lǐng)域,尤其涉及一種夾具及相應(yīng)的掩模板組件。
背景技術(shù)
在集成電路制造領(lǐng)域,光刻系統(tǒng)包括激光器、具有光刻印刷圖案的掩模板、多個(gè)投射光學(xué)裝置以及多個(gè)反射光學(xué)裝置,其中激光器用以提供輻射光。可在晶片上的一個(gè)或多個(gè)沉積層上形成光阻材料,光刻系統(tǒng)通過(guò)透射光學(xué)裝置或者由反射光學(xué)裝置反射輻射光到掩模板上,來(lái)自掩模板上的輻射光將形成圖案的圖像轉(zhuǎn)移到光阻材料上,并進(jìn)行蝕刻以形成半導(dǎo)體器件。其中,掩模板可由玻璃或鉻制成。
由于在掩模板使用過(guò)程中,環(huán)境中的顆粒或其它污染物經(jīng)常會(huì)附著到掩模板表面,而導(dǎo)致掩模板不能使用。因此,業(yè)界通常使用表膜來(lái)保護(hù)掩模板,使其不受微粒污染。表膜允許輻射光通過(guò)表膜并到達(dá)掩模板上,且可防止顆粒通過(guò)所述表膜。
具體請(qǐng)參考圖1,其為現(xiàn)有技術(shù)的掩模板組件的剖視圖,如圖所示,掩模板組件10包括:表膜、掩模板11以及粘合劑12,所述表膜包括透明的薄膜13以及表膜框架14,薄膜13連接于表膜框架14,表膜框架14通過(guò)粘合劑12粘接在掩模板11的表面,以保護(hù)掩模板11的表面免受顆粒污染。
通常一個(gè)掩模板可重復(fù)地印刷幾千個(gè)晶片,在其使用期間,需要經(jīng)常清洗維護(hù)。在掩模板的清洗過(guò)程中,需要先卸載表膜。然而,目前使用粘合劑將表膜固定在掩模板上,卸載表膜的過(guò)程非常復(fù)雜,需要使用化學(xué)試劑去除粘合劑,由于清洗過(guò)程的復(fù)雜性,縮短了掩模板的使用壽命。并且在清洗過(guò)程中,粘合劑經(jīng)常殘留在掩模板的表面上,而導(dǎo)致掩模板損壞,表膜框架卸載后,因粘合劑被破壞也無(wú)法繼續(xù)使用。
另外,由于表膜使用粘合劑固定于掩模板上,粘合劑會(huì)釋放出氣體,在光刻系統(tǒng)曝光過(guò)程中,隨著輻射光曝光量的累計(jì),會(huì)在掩模板表面形成結(jié)晶,導(dǎo)致掩模板無(wú)法繼續(xù)使用。
因此,提供一種將表膜框架固定在掩模板上的夾具,避免使用粘合劑,裝卸方便,可提高生產(chǎn)效率,并可提高表膜及掩模板的使用壽命,是十分必要的。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型提供一種夾具及相應(yīng)的掩模板組件,以解決現(xiàn)有的表膜框架利用粘合劑固定在掩模板上,減少掩模板的使用壽命,且表膜框架卸載后因粘合劑被破壞,無(wú)法繼續(xù)使用的問(wèn)題。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本實(shí)用新型提供一種夾具,用以將表膜框架固定在掩模板上,所述表膜框架的上表面具有一卡槽,所述夾具包括:第一固定部,與所述掩模板相匹配,卡合在所述掩模板的邊沿;以及第二固定部,與所述第一固定部連接,并與所述表膜框架相匹配,插入所述卡槽內(nèi)以固定所述表膜框架的位置。
可選的,所述第一固定部的截面呈形。
可選的,所述第二固定部包括一彎折部,其一端與所述第一固定部連接,其另一端向下彎折延伸形成一插入部,所述插入部與所述卡槽相匹配,插入所述卡槽內(nèi)以固定所述表膜框架的位置。
可選的,所述夾具的材質(zhì)為不銹鋼。
可選的,所述夾具是一體成型的。
本實(shí)用新型還提供一種掩模板組件,包括掩模板以及表膜,所述表膜包括薄膜以及與所述薄膜連接的表膜框架,所述表膜框架的上表面具有一卡槽,還包括夾具,用以將所述表膜框架固定在所述掩模板上,其中,所述夾具包括:第一固定部,與所述掩模板相匹配,卡合在所述掩模板的邊沿;以及第二固定部,與所述第一固定部連接,并與所述表膜框架相匹配,插入所述卡槽內(nèi)以固定所述表膜框架的位置。
可選的,所述第一固定部的截面呈形。
可選的,所述第二固定部包括一彎折部,其一端與所述第一固定部連接,其另一端向下彎折延伸形成一插入部,所述插入部與所述卡槽相匹配,插入所述卡槽內(nèi)以固定所述表膜框架的位置。
可選的,所述夾具的材質(zhì)為不銹鋼。
可選的,所述夾具是一體成型的。
可選的,所述夾具的數(shù)量為四個(gè)。
可選的,所述表膜框架的下表面具有一凹槽。
可選的,所述掩模板組件還包括密封圈,設(shè)置于所述凹槽內(nèi),并貼合于所述掩模板。
可選的,所述密封圈的材質(zhì)為橡膠。
本實(shí)用新型提供一種夾具及相應(yīng)的掩模板組件,所述夾具用以將表膜框架固定在掩模板上,其包括卡合在掩模板邊沿的第一固定部,以及與表膜框架相匹配的第二固定部,所述夾具可將表膜框架牢靠的固定在掩模上,且裝卸方便,提高了表膜以及掩模板的使用壽命,節(jié)約了生產(chǎn)成本,提高了生產(chǎn)效率。
附圖說(shuō)明
圖1為現(xiàn)有技術(shù)的掩模板組件的剖視圖;
圖2為本實(shí)用新型一實(shí)施例所提供的夾具的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本實(shí)用新型一實(shí)施例所提供的掩模板組件的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖4為本實(shí)用新型另一實(shí)施例所提供的掩模板組件的剖視圖。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專(zhuān)用設(shè)備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專(zhuān)門(mén)適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過(guò)帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過(guò)電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過(guò)100nm或更短波長(zhǎng)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學(xué)臨近校正(OPC)設(shè)計(jì)工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準(zhǔn)或測(cè)試的特殊涂層或標(biāo)記;其制備





