[實用新型]涂膠顯影機清潔裝置有效
| 申請號： | 200920070373.0 | 申請日： | 2009-04-14 |
| 公開（公告）號： | CN201392817Y | 公開（公告）日： | 2010-01-27 |
| 發明（設計）人： | 張建峰;蔡奇澄;張書慶;張健;盧健;王軍 | 申請（專利權）人： | 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司 |
| 主分類號： | H01L21/02 | 分類號： | H01L21/02;B08B15/04 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所（普通合伙） | 代理人： | 屈 蘅;李時云 |
| 地址： | 2012*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 涂膠 顯影 清潔 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.涂膠顯影機清潔裝置，包括頂層基架，滑板以及底部基板，所述頂層基架固定在顯影機的機臺上，其特征在于：
所述頂層基架上設有若干通孔，兩側分別設有折彎部；
所述底部基板的表面上分布有若干風扇，在所述風扇位置處設有相應的開口，所述底部基板與所述折彎部連接；
所述滑板位于所述底部基板和頂層基架形成的收容空間內，所述滑板上設有開孔。
2.如權利要求1所述的涂膠顯影機清潔裝置，其特征在于：所述通孔與所述開孔位置相對應。
3.如權利要求1或2所述的涂膠顯影機清潔裝置，其特征在于：固定在所述底部基板上的風扇與所述通孔的位置相對應。
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H01 基本電氣元件
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置；專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理；集成電路器件或其特殊部件的制造
